制藥網(wǎng)
詳細(xì)介紹
EB系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
產(chǎn)品介紹
廣泛用于半導(dǎo)體、LED生產(chǎn)線批量生產(chǎn)，可滿足鋁、鈦、鉻、鉬、釩、鎳、銀、銦等金屬，ITO等氧化物在基片上均勻沉積薄膜的各類工藝要求。
設(shè)備組成Structure
該設(shè)備主要有EB-500、EB-700、EB-900三個(gè)型號(hào)。系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電子槍
電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。體現(xiàn)立方整體外觀，適用
于超凈間間壁隔離安裝。
技術(shù)指標(biāo)
1、極限真空度：≤2.6×10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；
2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤6.6×10-8 Pa.l/S；
3、系統(tǒng)從大氣（暴露大氣時(shí)充干燥氮?dú)猓╅_始抽氣，EB-500型、EB-700型小于30分鐘可達(dá)到工作真空5.0×10-4Pa，
EB-900型小于20分鐘可達(dá)到工作真空2.6×10-4 Pa；；
4、蒸發(fā)速率： EB-500型：0.1～15Å/sec；EB-700型：0.1～20Å/sec；EB-900型：0.1～30Å/sec；
5、膜厚均勻性：
u 膜厚不均勻性≤±5%，
u 片間不均勻性≤±5%，
u 批次間不均勻性≤±5%；
6、電子槍及電源：EB-500型、EB-700型：4×25CC水冷坩堝；EB-900型： 4×40CC水冷坩堝；功率: EB-500型：
6KW； EB-700型：8KW；EB-900型：10KW；
7、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀可實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)多段速率爬升，可編程離散輸入/輸出，實(shí)現(xiàn)電子束蒸發(fā)源蒸發(fā)速率閉環(huán)控制，
膜厚顯示：0～999.9 kÅ，成膜速率：0～999 Å/s；
8、基片架：
9、光加熱系統(tǒng)：加熱溫度由室溫～300℃連續(xù)可調(diào)；
10、抽氣系統(tǒng)：低溫泵+羅茨泵組（或機(jī)械泵）+氣動(dòng)擋板閥組成；
11、真空測(cè)量：全量程真空規(guī)，測(cè)量范圍：大氣壓～5×10-7Pa，實(shí)現(xiàn)真空室排氣過程的真空度曲線顯示功能；
在前級(jí)管路上有1支皮拉尼低真空規(guī)，實(shí)現(xiàn)真空抽氣系統(tǒng)安全監(jiān)控；
12、控制系統(tǒng)：系統(tǒng)由工控機(jī)和PLC實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的控制，有自動(dòng)和手動(dòng)控制兩種功能，
操作過程全部在觸摸屏上實(shí)現(xiàn)，提供配方設(shè)置、真空系統(tǒng)、電子槍系統(tǒng)、工藝系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、
冷卻系統(tǒng)等人機(jī)操作界面；在工控機(jī)上可通過配方式參數(shù)設(shè)置方式實(shí)現(xiàn)對(duì)程序工藝過程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置；
13、設(shè)備的可靠性：
設(shè)備的完好率大于90%；設(shè)備的MTBF大于400小時(shí)；
14、額定總功率：60KW；
15、循環(huán)水用量：2m3/h；
16、占地面積：
設(shè)備尺寸：EB-500型：1600×2000mm2；EB-700型：1800×2200mm2；EB-900型：1600×2700mm2；
開門后尺寸：EB-500型：2900×3000m2；EB-700型：3200×3400mm2；EB-900型：3200×3700mm2。
產(chǎn)品介紹
廣泛用于半導(dǎo)體、LED生產(chǎn)線批量生產(chǎn)，可滿足鋁、鈦、鉻、鉬、釩、鎳、銀、銦等金屬，ITO等氧化物在基片上均勻沉積薄膜的各類工藝要求。
設(shè)備組成Structure
該設(shè)備主要有EB-500、EB-700、EB-900三個(gè)型號(hào)。系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電子槍
電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。體現(xiàn)立方整體外觀，適用
于超凈間間壁隔離安裝。
技術(shù)指標(biāo)
1、極限真空度：≤2.6×10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；
2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤6.6×10-8 Pa.l/S；
3、系統(tǒng)從大氣（暴露大氣時(shí)充干燥氮?dú)猓╅_始抽氣，EB-500型、EB-700型小于30分鐘可達(dá)到工作真空5.0×10-4Pa，
EB-900型小于20分鐘可達(dá)到工作真空2.6×10-4 Pa；；
4、蒸發(fā)速率： EB-500型：0.1～15Å/sec；EB-700型：0.1～20Å/sec；EB-900型：0.1～30Å/sec；
5、膜厚均勻性：
u 膜厚不均勻性≤±5%，
u 片間不均勻性≤±5%，
u 批次間不均勻性≤±5%；
6、電子槍及電源：EB-500型、EB-700型：4×25CC水冷坩堝；EB-900型： 4×40CC水冷坩堝；功率: EB-500型：
6KW； EB-700型：8KW；EB-900型：10KW；
7、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀可實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)多段速率爬升，可編程離散輸入/輸出，實(shí)現(xiàn)電子束蒸發(fā)源蒸發(fā)速率閉環(huán)控制，
膜厚顯示：0～999.9 kÅ，成膜速率：0～999 Å/s；
8、基片架：
| EB-500型(單拱型) | EB-700型(星型) | EB-900型(星型) | |
| 2吋 | 30片/次 | 42×3=126片/次 | 67片×3=201片/次 |
| 3吋 | 18片/次 | 23×3=69片/次 | 37片×3=111片/次 |
| 4吋 | 8片/次 | 18×3=54片/次 | 21片×3=67片/次 |
| 5吋 | 8×3=24片/次 | 17片×3=51片/次 | |
| 6吋 | 6×3=18片/次 | 12片×3=36片/次 | |
| 8吋 | 4×3=12片/次 | 6片×3=18片/次 |
10、抽氣系統(tǒng)：低溫泵+羅茨泵組（或機(jī)械泵）+氣動(dòng)擋板閥組成；
11、真空測(cè)量：全量程真空規(guī)，測(cè)量范圍：大氣壓～5×10-7Pa，實(shí)現(xiàn)真空室排氣過程的真空度曲線顯示功能；
在前級(jí)管路上有1支皮拉尼低真空規(guī)，實(shí)現(xiàn)真空抽氣系統(tǒng)安全監(jiān)控；
12、控制系統(tǒng)：系統(tǒng)由工控機(jī)和PLC實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的控制，有自動(dòng)和手動(dòng)控制兩種功能，
操作過程全部在觸摸屏上實(shí)現(xiàn)，提供配方設(shè)置、真空系統(tǒng)、電子槍系統(tǒng)、工藝系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、
冷卻系統(tǒng)等人機(jī)操作界面；在工控機(jī)上可通過配方式參數(shù)設(shè)置方式實(shí)現(xiàn)對(duì)程序工藝過程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置；
13、設(shè)備的可靠性：
設(shè)備的完好率大于90%；設(shè)備的MTBF大于400小時(shí)；
14、額定總功率：60KW；
15、循環(huán)水用量：2m3/h；
16、占地面積：
設(shè)備尺寸：EB-500型：1600×2000mm2；EB-700型：1800×2200mm2；EB-900型：1600×2700mm2；
開門后尺寸：EB-500型：2900×3000m2；EB-700型：3200×3400mm2；EB-900型：3200×3700mm2。
制藥網(wǎng)