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雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京中科科美科技股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/5/30 11:05:42
  • 訪問次數(shù)128
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北京中科科美科技股份有限公司是直屬企業(yè)北京中科科儀股份有限公司的控股子公司,是專門從事真空系統(tǒng)集成產(chǎn)品設(shè)計(jì)、制造、銷售和服務(wù)的國家企業(yè),為客戶提供真空系統(tǒng)整體解決方案和一站式服務(wù),包括真空集成系統(tǒng)的總體設(shè)計(jì)、工程實(shí)施、設(shè)備安裝、技術(shù)服務(wù)等。公司主營業(yè)務(wù)分為空間環(huán)境模擬裝置、充氣回收檢漏系統(tǒng)、新能源真空應(yīng)用系統(tǒng)和大科學(xué)工程真空配套四大類別。公司的客戶行業(yè)涉及航空航天、新能源(太陽能和核能)、新興裝備制造、科研院所、大科學(xué)工程、工業(yè)鍍膜、汽車制造、電子、低溫、超導(dǎo)、電氣檢測(cè)等多個(gè)領(lǐng)域。公司擁有的裝備制造實(shí)力,通過了ISO質(zhì)量管理體系和中核供應(yīng)商體系認(rèn)證,擁有3項(xiàng)發(fā)明及三十余項(xiàng)實(shí)用新型,曾參與:神光Ⅲ、北京高能同步輻射光源、特高壓蘇通GIL綜合管廊工程、江門中微子探測(cè)等國家大科學(xué)工程項(xiàng)目的實(shí)施,在真空領(lǐng)域具有的技術(shù)實(shí)力。中科科美致力于發(fā)展成為、具有國際競(jìng)爭力的真空系統(tǒng)集成整體解決方案供應(yīng)商,實(shí)現(xiàn)與客戶的共同成長!
檢漏設(shè)備
該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等,用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨(dú)立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室兩個(gè)真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜,完成用戶主要鍍膜工藝過程。預(yù)備室通過高真空插板閥與主腔室相連,可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗,并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。
雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

  一、應(yīng)用領(lǐng)域

  該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等,用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨(dú)立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室兩個(gè)真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜,完成用戶主要鍍膜工藝過程。預(yù)備室通過高真空插板閥與主腔室相連,可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗,并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。

  二、性能參數(shù)

  鍍膜室:

  1. 有效尺寸約Φ500×550,極限真空:5×10-5Pa;

  2. 磁控靶: 3″ 4只,直流射頻兼容,靶基距、角度可調(diào);配電(氣)動(dòng)擋板;

  3. 基片尺寸4″,可實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)、升降;

  4. 加熱溫度600℃,控溫精度±1度;

  5. 樣品臺(tái)公轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速:2-20rpm可調(diào);

  6. 偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)可選;

  預(yù)備室:

  1. 有效尺寸約Φ300×350;極限真空:5×10-4Pa;

  2. 腔體具有自加熱烘烤除氣功能;

  3. 對(duì)基片離子濺射清洗功能;

  4. 配置基片庫,可一次裝卡4片基片;

  5. 磁力取樣桿傳遞基片;

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