高性能FIB-SEM系統(tǒng) Ethos NX5000

◆ 核心理念 

1. 搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒

 HR模式下可實(shí)現(xiàn)高分辨觀(guān)察（半內(nèi)透鏡）

 FF模式下可實(shí)現(xiàn)高精度加工終點(diǎn)檢測(cè)（Timesharing Mode）

2. 高通量加工

 可通過(guò)高電流密度FIB實(shí)現(xiàn)快速加工（束流100nA）

 用戶(hù)可根據(jù)自身需求設(shè)定加工步驟

3. Micro Sampling System*3

 運(yùn)用ACE技術(shù)（加工位置調(diào)整）抑制Curtaining效應(yīng)

 控制離子束的入射角度，制備厚度均勻的薄膜樣品

4. 實(shí)現(xiàn)低損傷加工的Triple Beam System*3

 采用低加速（Ar/Xe）離子束，實(shí)現(xiàn)低損傷加工

 去除鎵污染

5. 樣品倉(cāng)與樣品臺(tái)適用于各種樣品分析

 多接口樣品倉(cāng)（大小接口）

 超大防振樣品臺(tái)（150 mm□）

*3選配

◆ 高性能SEM鏡筒

Ethos搭載的SEM配有兩種透鏡模式。HR模式可將樣品置于透鏡磁場(chǎng)之中，實(shí)現(xiàn)樣品的高分辨觀(guān)察。FF模式可在最短10nsec內(nèi)切換FIB照射與SEM觀(guān)察。用戶(hù)可在高速幀頻下觀(guān)察SEM圖像的同時(shí)，進(jìn)行FIB加工，因此，可輕松判斷截面的加工終點(diǎn)。NX5000采用電磁復(fù)合透鏡，即使在FF模式下也可保持高分辨觀(guān)察。

◆ 高分辨SEM觀(guān)察實(shí)例

                   Fin-FET 14 nm device                                                 3D-NAND device

◆ 高性能FIB鏡筒

通過(guò)高電流密度FIB可實(shí)現(xiàn)快速加工、廣域加工、多處自動(dòng)加工等

◆ 分時(shí)掃描模式

在FIB、Ar/Xe離子束照射時(shí)，可實(shí)時(shí)或分時(shí)觀(guān)察SEM圖像

■ 分時(shí)掃描模式可在的位置停止加工

■ Cut & See模式可實(shí)現(xiàn)高分辨SEM觀(guān)察

■ 實(shí)時(shí)加工模式是加工時(shí)間優(yōu)先的FIB加工模式

◆ 采用Cut & See模式可實(shí)現(xiàn)三維重構(gòu)

FOV：20 μm

Cut & See：200張

Slice pitch：20 nm

SEM加速電壓：1.5 kV

固體氧化物燃料電池的燃料極（Ni-YSZ）

樣品提供：東京大學(xué) 生產(chǎn)技術(shù)研究所

鹿園直毅 教授

◆ 抑制FIB加工損傷的高質(zhì)量TEM樣品制備

采用低加速氬離子束以及高電流密度FIB，可實(shí)現(xiàn)快速加工、廣域加工以及多處自動(dòng)加工等.

在2kV低加速電壓下進(jìn)行FIB加工時(shí)，觀(guān)察Ga+離子照射造成的樣品損傷（紅色箭頭）（圖a）

然后，在1kV低加速電壓下進(jìn)行氬離子研磨，消除FIB加工產(chǎn)生的損傷層后，可以清晰觀(guān)察到晶格像。

Triple Beam System（氬氣/氙氣）

在制備極薄樣品時(shí)，必須采用廣域且低損傷的加工方法。

Ethos采用樣品加工位置調(diào)整與低加速氬離子束精加工相結(jié)合的ACE技術(shù)，可制備出高質(zhì)量的TEM薄膜樣品。

ACE: Anti Curtaining Effect

◆ GUI設(shè)計(jì)進(jìn)一步提升了視覺(jué)美觀(guān)和響應(yīng)速度

4種信號(hào)可供選擇

■ In-Column探測(cè)器（SED×1、BSE×2）與樣品倉(cāng)SE探測(cè)器可同時(shí)采集信號(hào)

■ 搭載各SEM光學(xué)系統(tǒng)的Beam條件保存與讀取功能

■ 可根據(jù)不同觀(guān)察需求（形貌/成分），選擇的探測(cè)器

■ 每種探測(cè)器均可實(shí)現(xiàn)對(duì)比度、亮度等個(gè)性設(shè)置、保存與輸出

◆ 建立多樣化的加工模式與定序

登錄和輸出各種加工模式/觀(guān)察條件

■ 拖拽即可簡(jiǎn)單建立加工/觀(guān)察定序

■ 各加工模式與程序加工均可自由編輯與登錄

■ 可通過(guò)輸出當(dāng)前的程序加工，簡(jiǎn)單完成加工設(shè)置

■ 可通過(guò)讀取當(dāng)前的定序，大大簡(jiǎn)化重復(fù)操作

■ 可通過(guò)復(fù)制并編輯定序，進(jìn)一步提高擴(kuò)展性與靈活性

通過(guò)運(yùn)用各種加工模式，靈活設(shè)置加工范圍

■ 加工模式支持矩形、圓形、三角形、平行四邊形、傾斜加工、Bit-map加工等

■ 應(yīng)用加工支持橫截面加工以及TEM樣品制備

■ Vector Scan*3可根據(jù)向量信息顯示加工范圍，完成精準(zhǔn)定位。而且，圖像(bmp)轉(zhuǎn)換成向量后，也可繼續(xù)進(jìn)行樣品加工

■ 搭載各種離子束照射位置補(bǔ)償功能（漂移校正功能），可實(shí)現(xiàn)高精度加工

*3選配

◆ 超大樣品倉(cāng)支持各種用途

■ 配置支持高分辨觀(guān)察的防振樣品臺(tái)

■ 設(shè)置多種接口，可加裝更多的選配附件，實(shí)現(xiàn)多種樣品加工、觀(guān)察以及分析