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FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡

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公司名稱上海禹重實(shí)業(yè)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/8/1 14:49:49
訪問次數(shù)602

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上海禹重實(shí)業(yè)有限公司（以下簡(jiǎn)稱禹重科技®）是一家以服務(wù)introduce中國(guó)市場(chǎng)為主的進(jìn)口儀器貿(mào)易和檢測(cè)技術(shù)服務(wù)公司，下設(shè)三個(gè)事業(yè)部和一個(gè)中心，即分析儀器事業(yè)部、實(shí)驗(yàn)室服務(wù)事業(yè)部、項(xiàng)目開發(fā)部、以及中禹聯(lián)重檢測(cè)技術(shù)中心。目前除上?？偛客猓覀円呀⒈本?、沈陽、太原、長(zhǎng)沙、廣州、青島和成都等分支機(jī)構(gòu)。為客戶提供更專業(yè)、更安全、更便捷的產(chǎn)品和服務(wù)是我們禹重科技®的目標(biāo)。

禹重科技®作為Thermo Science（賽默飛）、DIONEX（戴安）、Gilson（吉爾森）和Tekmar（泰克瑪）等品牌的核心代理商，依托（香港）亞測(cè)科技有限公司（Amicrotest Technology Limited），我們將分析測(cè)試前沿技術(shù)和產(chǎn)品帶給國(guó)內(nèi)客戶，為眾多企業(yè)和高校、科研院所以及政府機(jī)構(gòu)的產(chǎn)品研發(fā)、質(zhì)量控制、合規(guī)運(yùn)營(yíng)，提供成分分析儀器、表面分析儀器、自動(dòng)化樣品前處理儀器和物理力學(xué)儀器等綜合性儀器解決方案，同時(shí)提供儀器配套設(shè)備和標(biāo)準(zhǔn)樣品耗材的銷售，材料測(cè)試等實(shí)驗(yàn)室服務(wù)。

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成分分析儀，表面分析儀，光譜儀

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FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡（STEM）和 TEM 成像功能與的能量色散 X 射線光譜儀（EDS）信號(hào)檢測(cè)功能及基于成分測(cè)繪的三維化學(xué)表征功能。Talos F200X 可在所有維度（1D-4D）下實(shí)現(xiàn)Z快速、Z精確的 EDS 分析，以及且支持快速導(dǎo)航的動(dòng)態(tài)顯微鏡 HRTEM 成像。

FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡產(chǎn)品信息

FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡融合了出色的高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (STEM) 和 TEM 成像功能與行業(yè)的能量色散 X 射線光譜儀 (EDS) 信號(hào)檢測(cè)功能及基于成分測(cè)繪的三維化學(xué)表征功能。Talos F200X 可在所有維度 (1D-4D) 下實(shí)現(xiàn)zui快速、zui精確的 EDS 分析，以及且支持快速導(dǎo)航的動(dòng)態(tài)顯微鏡 HRTEM 成像。
FEI Talos F200系列場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡可以實(shí)現(xiàn)zui快速、zui準(zhǔn)確且量化的多維納米材料表征。 FEI Talos F200S 200 kV STEM 融合了快速、多通道、高分辨率 STEM 成像和精確成分分析，可以支持各種動(dòng)態(tài)顯微鏡應(yīng)用。FEI Talos 的創(chuàng)新功能可提高通量、精度與易用性，非常適于學(xué)院、政府和工業(yè)研究環(huán)境中的高級(jí)研究與分析。
是FEI公司新一代場(chǎng)發(fā)射低溫透射電鏡，配有場(chǎng)發(fā)射電子槍；樣品臺(tái)可傾轉(zhuǎn)zui大角度70度；恒功率模式的物鏡保證成像的高穩(wěn)定性；點(diǎn)分辨率可達(dá)0.3nm，信息分辨極限可達(dá)0.15nm。
基本參數(shù)
Talos F200S
總束電流：>150nA
探針電流：1nA@1nm探針（200 kV）
EDS系統(tǒng)：2 SDD無窗設(shè)計(jì)，shutter保護(hù)
能量分辨率：≤136 eV，對(duì)Mn-Kalpha和10kcps（輸出）
快速EDS：像素駐留時(shí)間低至10 us
Talos F200X
明場(chǎng)X-FEG：1.8×109 A/cm2 srad（@200kV）
總束電流：>50nA
探針電流：2nA@1nm探針（200 kV）；0.4 nA@0.31nm探針
EDS系統(tǒng)：2 SDD無窗設(shè)計(jì)，shutter保護(hù)
能量分辨率：≤136 eV，對(duì)Mn-Kalpha和10kcps（輸出）
快速EDS：像素駐留時(shí)間低至10 us 除了這些基本特性外，本中心的Talos還裝備：
1 Ceta 4K*4K 相機(jī)；
2 用于STEM模式的環(huán)形暗場(chǎng)探頭（HAADF）以及BF/DF探頭；
3 Gatan 626冷凍傳輸樣品桿，單傾樣品桿以及三維重構(gòu)樣品桿；
4 單顆粒技術(shù)自動(dòng)化數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)EPU和電子斷層掃描技術(shù)自動(dòng)化數(shù)據(jù)收集軟件Xplore3D。
Talos可以滿足冷凍單顆粒技術(shù)、冷凍電子斷層掃描技術(shù)、STEM電子斷層掃描技術(shù)的數(shù)據(jù)收集需求，如：
1. 進(jìn)行液氮溫度的冷凍樣品數(shù)據(jù)收集；
2. 可進(jìn)行單顆粒樣品數(shù)據(jù)收集；