硫酸頭孢喹肟膠體磨

硫酸頭孢喹肟膠體磨，硫酸頭孢喹肟改進(jìn)型膠體磨   硫酸頭孢喹肟研磨分散機(jī)   是，透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉分散作用。

硫酸頭孢喹肟膠體磨，硫酸頭孢喹肟改進(jìn)型膠體磨   硫酸頭孢喹肟研磨分散機(jī)

混懸劑組成分別為：藥品、助懸劑、潤(rùn)濕劑、防腐劑等。

zui終產(chǎn)品： 混懸液

用途： 混懸液

工藝要求： 與藥物接觸部分為

原材料： 硫酸頭孢喹肟

液體(%)： 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇

固體(%)： 硫酸頭孢喹肟

密度(kg/m3)： 1.05 溫度(℃)： 35

　將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐，加適量三乙酸甘油酯，經(jīng)研磨分散機(jī)進(jìn)行分散均勻，加入丙二醇，混合均勻。

        1、因該機(jī)轉(zhuǎn)、定子間隙不可調(diào)，是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑？

        2、該機(jī)粉碎以上附加劑，會(huì)不會(huì)造成定轉(zhuǎn)子接觸部分磨損？

        3、該機(jī)能否實(shí)現(xiàn)細(xì)碎至通過(guò)顆粒直徑*小于50um。其中D95<20um，D90<10um，D80<5um目的？

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細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。 

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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