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注射混懸液膠體磨

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CMD20000
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2018/3/17 11:09:17
  • 訪問次數(shù)5312
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IKN集團(tuán)建于1910年,它位于德國(guó)西南部,靠近法國(guó)與瑞士邊境。一直在設(shè)計(jì)研制高品質(zhì)的實(shí)驗(yàn)室儀器及工業(yè)混合分散設(shè)備等方面作出不懈的努力。IKN產(chǎn)品已遍布世界100多個(gè)國(guó)家與地區(qū)。近百年的制造歷史,豐富的專業(yè)經(jīng)驗(yàn),創(chuàng)新的工作態(tài)度,嚴(yán)謹(jǐn)?shù)牡聡?guó)風(fēng)格,已經(jīng)使IKN成為高品質(zhì)設(shè)備的代名詞,IKN集團(tuán)已成為范圍內(nèi)


上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營(yíng)企業(yè),依肯通過引進(jìn)德國(guó)IKN技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營(yíng)銷體系,并秉承發(fā)揚(yáng)了德國(guó)的營(yíng)銷理念,不斷開拓進(jìn)取,以其專業(yè)制造的*性、經(jīng)營(yíng)思想的純潔性、工作作風(fēng)的嚴(yán)謹(jǐn)性,發(fā)展成為中國(guó)流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的者。 公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一 高剪切分散乳化機(jī),二 均質(zhì)設(shè)備,三 粉液混合設(shè)備,四 膠體磨,五 攪拌機(jī),六干燥機(jī)等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細(xì)度可達(dá)微納米級(jí)別。已廣泛應(yīng)用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細(xì)化工等領(lǐng)域,并成功為國(guó)家重點(diǎn)工程配套,部分產(chǎn)品返銷國(guó)外,取得了顯著的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。

追求高品質(zhì)IKN的宗旨。成功源自創(chuàng)新亦是公司全體員工一直努力追隨的目標(biāo)。高品質(zhì)與創(chuàng)新是IKN立于世界術(shù)之巔的保證。


乳化機(jī),膠體磨,粉液混合機(jī),均質(zhì)機(jī),攪拌機(jī),膠體磨,干燥機(jī),分散機(jī)
注射混懸液膠體磨,注射液體磨,混懸液膠體磨,磨比普通的膠體磨的速度達(dá)到4-5倍以上,研磨效果非常好,Z高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。
注射混懸液膠體磨 產(chǎn)品信息

注射混懸液膠體磨,注射液體磨,混懸液膠體磨,磨比普通的膠體磨的速度達(dá)到4-5倍以上,研磨效果非常好,zui高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。


注射混懸液 液體藥劑中的藥物可以是固體、液體或氣體,在一定條件下分別以分子或離子、膠粒、顆粒、液滴狀態(tài)分散于液體分散媒(溶劑,下同)中組成分散體系。如分散相以分子或離子狀態(tài)分散于液體分散媒中者稱為溶液(真溶液),其中溶質(zhì)分子量小的稱為低分子溶液;溶質(zhì)分子量大的(如蛋白質(zhì)類)則稱為高分子溶液。膠體溶液除了高分子溶液以外,還包括溶膠,它由多分子聚集體作為分散相的質(zhì)點(diǎn),分散在液體分散媒中。如果以固體顆?;蛞旱畏稚⒂诜稚⒚街?,顆?;蛞旱闻c分散媒之間有相界面,前者稱為混懸液,后者稱為乳濁液。

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)


1 乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 乳化頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4  物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)


線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。 

  • 剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
                  g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素: 

  • 轉(zhuǎn)子的線速率
  • 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  


速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60



2.2.1 漿料穩(wěn)定性理論

大部分的漿料都是屬于懸浮液體系。不穩(wěn)定的懸浮液在靜止?fàn)顟B(tài)下發(fā)生絮凝,并由于重力作用而很快分層,分散的目的就是要在產(chǎn)品的有效期內(nèi)抗絮凝、防止分層,維持懸浮顆粒的均勻分布,提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性。

2.2.1.1 懸浮液的絮凝理論

絮凝作用即是在靜態(tài)(由于布朗運(yùn)動(dòng))或動(dòng)態(tài)(在剪切力作用下條件下,通過顆粒碰撞引起顆粒數(shù)目減少的過程。膠體系統(tǒng)中,如不考慮穩(wěn)定劑,顆粒間的相互作用主要有范德華(Vander Waals)引力;伴隨著帶電顆粒的庫侖(Coulombic)力(斥力或引力)。這些力的起因截然不同,Derjaguin 和 Landau 在蘇聯(lián),Verwey 和 Overbeek 在荷蘭分別獨(dú)立的提出 DLVO 理論,構(gòu)成了親液分散體系中絮凝作用經(jīng)典理論的基礎(chǔ),闡述了膠體懸浮體系的穩(wěn)定性主要與膠體顆粒間上述兩個(gè)獨(dú)立的相互作用的相對(duì)距離有關(guān)。

2.2.1.2 懸浮液的分層理論

分層是分散相在外力(重力或離心力)作用下,在連續(xù)相中上浮或下沉的結(jié)果。在忽略布朗運(yùn)動(dòng)效應(yīng)的靜態(tài)條件下,可用Stokes 定律來描述,即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定:

 

式中

ρs -ρ為分散相與連續(xù)相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續(xù)相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續(xù)相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負(fù)值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩(wěn)定,就必須降低沉降速度,對(duì)于特定的漿料可以通過減小分散相固體顆粒直徑 d。因?yàn)橹挥挟?dāng)粒徑減至連續(xù)相液體分子大小時(shí),顆粒才能穩(wěn)定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。

通過以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩(wěn)定性,分散相顆粒的粒徑應(yīng)盡量細(xì)小。但應(yīng)該指出,根據(jù)前人所做的大量研究發(fā)現(xiàn),隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩?,但是由于顆粒之間的間距減小,顆粒之間的結(jié)合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當(dāng)顆粒直徑小于某一細(xì)小尺寸時(shí),此時(shí),顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)效應(yīng)就不能忽略了,所以由于細(xì)小顆粒的布朗運(yùn)動(dòng),而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩(wěn)定劑,這些情況都會(huì)導(dǎo)致顆粒團(tuán)聚,對(duì)體系的穩(wěn)定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細(xì)越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點(diǎn),減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個(gè)較窄的尺寸范圍,并達(dá)到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩(wěn)定。

2.2.2 團(tuán)聚與分散的關(guān)系

漿料的團(tuán)聚是指原生的微細(xì)顆粒在制備、分散及存放過程中,相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。

顆粒在液相介質(zhì)中表現(xiàn)為分散和團(tuán)聚兩種基本的行為。顆粒在液體介質(zhì)中的團(tuán)聚是吸附與排斥共同作用的結(jié)果,其根源是顆粒間的相互作用力。在懸濁液體系中,粉體顆粒的團(tuán)聚是吸附和排斥共同作用的結(jié)果。如果吸附作用大于排斥作用,粉體顆粒團(tuán)聚;如果吸附作用小于排斥作用,粉體顆粒則分散。在液體介質(zhì)中,粉體顆粒受力情況較復(fù)雜,不僅有像范德華力、靜電力、表面張力、毛細(xì)管力等產(chǎn)生團(tuán)聚的吸引力,而且在粒子的表面,還會(huì)產(chǎn)生雙電層靜電作用、溶劑化膜作用、聚合物吸附層的空間保護(hù)作用等使納米顆粒趨向于分散的斥力作用。


顆粒在介質(zhì)中的穩(wěn)定分散一般包括以下過程:潤(rùn)濕、機(jī)械分散及分散穩(wěn)定。潤(rùn)濕通常指顆粒與顆粒之間的界面被顆粒與溶劑、分散劑等界面所取代的過程。機(jī)械分散是利用剪切力將大量顆粒細(xì)化、使團(tuán)聚體解聚、被潤(rùn)濕、包裹吸附的過程。分散穩(wěn)定是指將原生粒子或較小的團(tuán)聚體在靜電斥力、空間位阻斥力作用下來屏蔽范德華引力,使顆粒不再聚集的過程。團(tuán)聚體分散解聚的直接原因是受到剪切力和壓力的作用,剪切力在分散過程中起到了決定性的作用。


注射混懸液膠體磨,

CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì),特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。 


本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

膠體磨

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


CM 2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CM 2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CM 2000/10

8,000

4,200

23

22

DN50/DN50

CM 2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

CM 2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

CM 2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。


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關(guān)鍵詞:膠體磨 穩(wěn)定劑
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