本裝置包含燒結(jié)系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng),供氣系統(tǒng)于一體,應(yīng)用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復(fù)合碳材料的滲透等;也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料,如 ZnO、CdS 等;溶液法制備薄膜,如制備龐磁電阻薄膜,制備高溫超導(dǎo)薄膜等;固相反應(yīng)法材料合成;在大氣、真空或氣氛保護(hù)下進(jìn)行各種材料的熱處理。
設(shè)備規(guī)格及配置
本裝置包含燒結(jié)系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng),供氣系統(tǒng)于一體,應(yīng)用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復(fù)合碳材料的滲透等;也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料,如 ZnO、CdS 等;溶液法制備薄膜,如制備龐磁電阻薄膜,制備高溫超導(dǎo)薄膜等;固相反應(yīng)法材料合成;在大氣、真空或氣氛保護(hù)下進(jìn)行各種材料的熱處理。
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