本裝置由我公司和材料物理重點實驗室聯(lián)合研制,由溫度控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和單晶爐爐體等部分組成。
主要實驗內容
1、制備金屬氧化物類單晶,如 SrMoO3 等;
2、制備氧化物高溫超導體,如釔鋇銅氧等;
3、制備非氧化物單晶,如單晶硅、單晶碳化硅等;
4、在 1550℃以下大氣、真空或氣氛保護下進行單晶生長、材料熱處理、固相反應材料合成等。
主要技術特點
1、一機多用,可開設多個綜合性、研究性實驗:既可制備氧化物類單晶,又可制備非氧化物類或厭氧類單晶,具有很高的性能價格比;
2、采用特殊的做爐膛保溫材料,具有密度小,保溫性能好等特點;
3、采用抽真空結合保護氣氛,既可以抽真空,又可以通入不同的氣體;
4、溫度采用程序控制,實現(xiàn)智能化,溫度可達:1550℃;溫度梯度:約 5℃ /cm。
主要技術參數(shù)
1、電源 AC 220V50/60Hz;額定功率:5kW;
2、爐膛尺寸:Φ185mm×185mm;加熱區(qū)尺寸:150mm;
3、溫度控制范圍:100 ~ 1600℃,控制精度 :±1℃,升溫速率:10℃ /min;
4、報警保護:上、下限,正、負偏差 , 斷偶等報警;
5、進氣系統(tǒng):一路質量流量控制器。