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德Alpha Plasma 微波等離子去膠機(jī)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2021/7/22 20:01:50
  • 訪問次數(shù)878
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
德Alpha Plasma 微波等離子去膠機(jī),去膠快速*,無化學(xué)殘留物,無需干燥處理,對樣品無損傷,操作簡單安全。
德Alpha Plasma 微波等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品信息

德Alpha Plasma 微波等離子去膠機(jī)

。去膠快速*
。無化學(xué)殘留物
。無需干燥處理
。對樣品無損傷
。操作簡單安全

產(chǎn)品規(guī)格及參數(shù):

產(chǎn)品用途

■ 高劑量離子注入后光刻膠的去除

■ 濕法腐蝕 / 干法刻蝕前后光刻膠的去除

■ SU-8 膠及其他環(huán)氧基光刻膠的去除

■ MEMS 工藝中犧牲層的去除

■ 材料表面活化改性

■ 封裝鍵合工藝中等離子清洗

SU-8 膠的去除

SU-8 膠已成為微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)制造領(lǐng)域中的光刻膠。然而 SU-8 膠最致命的缺點就是去膠困難,為了解決這個難題,德國 Alpha Plasma 推出專業(yè)去除 SU-8 膠的微波等離子去膠機(jī)。該設(shè)備采用氟基氣體與 SU-8 膠的化學(xué)反應(yīng),實現(xiàn)快速去除 SU-8 膠的功能。另外設(shè)備還可集成溫控系統(tǒng),去膠過程中對襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結(jié)構(gòu)的完整性,最終實現(xiàn)高質(zhì)量 MEMS 器件的制備。

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