德國 PVA TePla 等離子去膠機IoN Wave 10E等離子去膠機
IoN Wave 10E等離子去膠機是我們在微波等離子處理工藝中的產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適中、性能*，特別適用于工廠、科研院所等領(lǐng)域。
IoN Wave 10E使用的、性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。
IoN Wave 10E占地面積很小，安裝和維護簡單。依靠微波等離子技術(shù)，該設(shè)備在提供*的光刻膠灰化速度的同時，的降低了產(chǎn)品暴露在靜電放電（ESD）中。
*的功能性：
。臺式設(shè)計，占地面積小
。石英腔室可容納8寸的晶圓，最多同時裝載25片6寸晶圓
。使用Windows操作系統(tǒng)的工業(yè)計算機控制
。符合Semi E95-1101要求的圖形用戶界面（GUI）
。軟件提供了不同的用戶訪問權(quán)限：操作員、工藝編寫、維護
。通過以太網(wǎng)進行遠程工藝監(jiān)測
。機載診斷功能和報警記錄
。工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能
。液晶觸摸屏（LCD）操作面板
。基于在線網(wǎng)絡(luò)的模擬、培訓(xùn)和支持程序
。安裝簡單快捷
典型應(yīng)用
。 去除光刻膠
。 晶圓打膠
。濕法刻蝕前的晶圓清潔
。去除SU-8
。 刻蝕鈍化層
。失效分析中的器件開封
。 清潔和表面活化
?；瘜W(xué)微量分析中的低溫材料灰化
。 過濾器和濾膜的清潔
規(guī)格參數(shù)
工作腔室
材質(zhì) ： 石英
尺寸 ：248mm直徑 x 397 mm長
腔門處直徑 ： 241mm
容積 ：19.2 升
工藝氣體控制 ：最多至6路氣體，MFC控制
基礎(chǔ)壓力 ：0.07 mbar (50 mTorr)
工藝壓力 ： 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)
抽真空時間 ：大約1分鐘
微波發(fā)生器
頻率： 2.45 GHz
輸出功率 ：1200W
供給需求
電源 ：220V，50 Hz，單相
工藝氣體 ：輸入壓力1-2 Bar
壓縮空氣 ： 4-6 Bar，流速 56 升/分鐘 （間歇式）
吹掃氣體 ： 1.3-2.7 Bar，流速 28 升/分鐘 （間歇式）
尺寸 寬/高/深 ： 775 x 749 x 781 mm
重量 135 千克
可選配置
。 推拉門
。 石英舟支撐桿
。溫控板
。 1%精度的真空規(guī)
。 壓力控制器
。指示燈柱
。 條形碼閱讀器
。 工藝氣體切換器
。 光譜終點檢測器
。 法拉第桶（次級等離子體）
。陶瓷腔室，耐化學(xué)腐蝕密封圈
。 打印機
。 油泵或干泵
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