紫外曝光機

紫外曝光機

型號：  MA6
廠家： 德國Karl Süss公司
技術(shù)指標(biāo): 
  曝光光源：UV1000
  光源波長：365nm 
  光源均勻性：<3.1%
  晶片尺寸：2-6英寸 
 接觸方式：真空，低真空接觸, 硬接觸，  軟接觸和接近式接觸
 對準(zhǔn)模式：正和背面兩種對準(zhǔn)方式
 最小線寬：0.5 μm
 對準(zhǔn)精度:  ±0.5 μm
主要功能及應(yīng)用范圍：
采用紫外光源，制作亞微米(最小線寬0.5 μm)的圖形。可用于各種微器件的制作和低維人工結(jié)構(gòu)的形成，如制作下列器件結(jié)構(gòu)：微電子器件，光電子器件，生物傳感器，微機電系統(tǒng)，超導(dǎo)電子學(xué)器件，磁電子學(xué)器件等，也是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要輔助工具。
主要附件: 涂膠機；HP8熱板；顯影機，光學(xué)顯微鏡