電子束刻蝕系統(tǒng)

電子束刻蝕系統(tǒng)

型號：  Zeiss Supra55+Raith圖形發(fā)生器
廠家：德國Zeiss和 Raith公司
技術(shù)指標(biāo): 
  SEM分辨率：2 nm 
 最小線寬：10 nm
 單個單元的尺寸400um*400um
主要功能及應(yīng)用范圍：
    采用電子束直接曝光的方法，制作納米圖形結(jié)構(gòu)(最小線寬為12nm)。用于各種微納器件與納米人工結(jié)構(gòu)的制作，是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具，也可用于直寫高精度的光刻模板。如可用于制作下列器件與結(jié)構(gòu)：微納電子器件，光電子器件，生物傳感器，微納機電系統(tǒng)，超導(dǎo)電子學(xué)器件，磁電子學(xué)器件，低維材料輸運性質(zhì)測量的納米電極，光子晶體與左手材料等。