小型射頻等離子清洗機(jī)TS-PL10MA-S

產(chǎn)品介紹

小型射頻等離子清洗機(jī)TS-PL10MA產(chǎn)品參數(shù)：

小型射頻等離子清洗機(jī)TS-PL10MA產(chǎn)品特點(diǎn)：

的密封性腔體:采用進(jìn)口316不銹鋼腔體，級的高真空度真空腔體設(shè)計(jì)及制造工藝。

高密度等離子電源技術(shù)：采用進(jìn)口等離子電源電路技術(shù)，確保出眾的清洗效果。

放電技術(shù)：特殊處理的放電裝置，確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。

高精度氣體流量監(jiān)測系統(tǒng)：兩種工藝氣體配置(氬氣、氧氣等非腐蝕性氣體），雙路氣流控制，比例可調(diào)，采用MFC質(zhì)量流量計(jì)、氣體管路及閥件。

優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品部件：產(chǎn)品部件采用國內(nèi)外優(yōu)質(zhì)品牌，確保設(shè)備性能*。

數(shù)字計(jì)時單元：1-9999s選擇范圍時間顯示，處理過程結(jié)束后自動終止。

適用形狀復(fù)雜樣品：清洗各種復(fù)雜形狀的產(chǎn)品，包括內(nèi)孔內(nèi)壁，均勻清洗。

處理全程無污染 ：等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，無產(chǎn)生任何污染，處理過程也無產(chǎn)生任何污染。

等離子體清洗設(shè)備的基本構(gòu)造：

根據(jù)用途的不同，可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備，并可通過選用不同種類的氣體，調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實(shí)現(xiàn)化。 但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的， 一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電 極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源通常用13.56 MHz的無線電波。設(shè)備的運(yùn)行過程如下：

（1 ）被清洗的工件送入真空室并加以固定， 啟動運(yùn)行裝置，開始排氣，使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10 Pa 左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時間大約需要 2 min。

（2 ）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在100Pa。 根據(jù)清洗材質(zhì)的不同，可分別選用氧氣、氫 氣、氬氣或氮?dú)獾葰怏w。

（3 ）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加 高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā) 生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理工件，開始清洗作業(yè)。一 般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

（4 ）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及氣化的污垢排出，同時向真空室內(nèi)鼓入空氣，并使氣壓升至一個大氣壓。