曹林燕
目錄:蘇州凱旭凈化設(shè)備有限公司>>超純水設(shè)備>>EDI超純水設(shè)備>> KX4EDI超純水設(shè)備
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更新時(shí)間:2024-11-09 13:13:39瀏覽次數(shù):1952評(píng)價(jià)
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操作壓力 | 1.2 | 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) |
---|---|---|---|
產(chǎn)品大小 | 中型 | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
產(chǎn)水量 | 1T/H | 結(jié)構(gòu)類型 | 立式 |
脫鹽率 | 99.6% | 用途 | 水過濾 |
自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) | 電導(dǎo)率 | 0.1μS/cm |
電阻率 | 18.2MΩ·cm | 材質(zhì) | UPVC |
原理及簡(jiǎn)介:
凱旭超純水設(shè)備二級(jí)反滲透系統(tǒng)出水電導(dǎo)率≤2-5μs/cm(25℃)進(jìn)入EDI系統(tǒng), Electrodeionization 簡(jiǎn)稱EDI是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機(jī)地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù),它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對(duì)填充在淡水室中的離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)ZS,再通過拋光混床系統(tǒng)達(dá)到電子級(jí)用水標(biāo)準(zhǔn)即電阻率≥18.2MΩ·cm(25℃)。
EDI膜堆主要由交替排列的陽(yáng)離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下,淡水室中離子交換樹脂中的陽(yáng)離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移,陽(yáng)離子透過陽(yáng)離子交換膜,陰離子透過陰離子交換膜,分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽(yáng)離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換,形成超純水(高純水)。電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)的ZS。傳統(tǒng)的離子交換樹脂飽和后需要化學(xué)間歇ZS。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)ZS,工作是連續(xù)的,不需要酸堿化學(xué)ZS。
EDI超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域:
EDI超純水技術(shù)具有技術(shù)、操作簡(jiǎn)便、是清潔生產(chǎn)技術(shù),在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、醫(yī)藥工業(yè)、化工工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域得到日趨廣泛的應(yīng)用。
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對(duì)水質(zhì)的要求也越高,這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
超純水設(shè)備技術(shù)優(yōu)點(diǎn):
EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)(MB-DI)生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有以下優(yōu)點(diǎn):
1、離子交換樹脂的用量少,約相當(dāng)于傳統(tǒng)離子交換法樹脂用量的5%。
2、離子交換樹脂不需酸,堿化學(xué)ZS,節(jié)約大量酸、堿和清洗用水,降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
3、無廢酸、廢堿液排放,是清潔的生產(chǎn)技術(shù)。
4、過程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制,產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定,與RO等水處理技術(shù)相結(jié)合,能形成完善的純水、超純水生產(chǎn)線。
5、產(chǎn)水水質(zhì)高,可達(dá)到國(guó)家電子級(jí)水I級(jí)標(biāo)準(zhǔn),電阻率為18MΩ·cm。
6、純水生產(chǎn)過程連續(xù)進(jìn)行,無需像離子交換床那樣一套在用一套ZS地重復(fù)設(shè)置。
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