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帶振動(dòng)樣品臺(tái)的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有三個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。
設(shè)備配有變頻振動(dòng)的震動(dòng)型樣品臺(tái)，可以將放置在上面的粉末或者顆粒不規(guī)則的翻動(dòng)，以確保在鍍膜過程中所有的顆粒的表面能包覆上鍍層，避免鍍膜不勻的情況，是專為顆粒型樣品所設(shè)計(jì)的PVD設(shè)備。
三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目 明細(xì) 供電電壓 AC220V，50Hz 整機(jī)功率 6KW 極限真空度 5x10-4Pa 載樣臺(tái)參數(shù) 尺寸 φ150mm 振動(dòng)方式 變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)齒輪 磁控濺射頭參數(shù) 數(shù)量 斜置3個(gè)2"磁控濺射頭 與垂直方向夾角15° 冷卻方式 水冷，所需流速10L/min 水冷機(jī)規(guī)格 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) 真空腔體 腔體尺寸 φ300mm X 340mm H 腔體材料 不銹鋼 觀察窗口 φ100mm 開啟方式 上頂開式，便于更換靶材 氣體流量控制器 1路200sccm Ar； 真空泵 配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S 膜厚儀 石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ? 濺射電源 直流電源2臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜 操作方式 一體機(jī)電腦操作 整機(jī)尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm 整機(jī)重量 350kg
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