制藥網(wǎng)
詳細(xì)介紹
詳情介紹：
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點。
單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
桌面型單靶磁控鍍膜儀 樣品臺 尺寸 φ100mm 加熱 *高500℃ 轉(zhuǎn)速 0-20可調(diào) 磁控濺射靶 數(shù)量 2" x1 真空腔體 腔體尺寸 φ180mm X 215mm 觀察窗口 全向透明 腔體材料 高純石英 開啟方式 上蓋拆卸式 真空系統(tǒng) 機械泵 旋片泵 分子泵 渦輪分子泵 真空測量 電阻規(guī)+電離規(guī) 抽氣接口 KF16 抽氣接口 KF40 排氣接口 KF16 極限真空 1.0E-4Pa 供電電源 AC 220V 50/60Hz 抽氣速率 機械泵1.1L/s 分子泵600L/s 電源配置 數(shù)量 直流電源 x1 *大輸出功率 直流電源150W 其他 供電電壓 AC220V,50Hz 整機功率 2kW 整機尺寸 550mm X 350mm X400mm
制藥網(wǎng)