雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點:
1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格:
輸入功率 | 單相220 VAC 50 / 60 Hz, 2000 W (包括真空泵和冷水機組) |
電源 | 兩個濺射電源集成在一個控制箱中。 - 直流電源:用于涂覆金屬材料的500 W功率。
- 射頻電源:300 W功率,13.56 MHz頻率,用于涂覆非導(dǎo)電材料。
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磁控濺射頭 | 包括兩個帶有水冷套和百葉窗的2“磁控濺射頭。 此產(chǎn)品頁面中還提供了一個濺射頭型號(在產(chǎn)品選項中)。 - 一個連接到 直流電源以涂覆金屬材料
- 另一個連接到用于非導(dǎo)電材料的RF源
- 靶尺寸要求:2“直徑
- 厚度范圍:0.1 - 5 mm,適用于金屬和非導(dǎo)電目標(biāo)(包括背板)
- 包括一個不銹鋼靶目標(biāo)和一個研究級Al2O3靶 用于樣品測試
定制涂膜機:兩個不帶射頻的直流頭; 兩個沒有DC的RF頭; 可根據(jù)要求提供3個RF頭。 |
真空室 | - 真空室:直徑300毫米×300 mm高度,由不銹鋼制成
- 視口:兩片100毫米直徑玻璃。一個固定;一個可拆卸清潔和更換
- 帶氣動電源桿的鉸接式蓋子可輕松更換靶
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樣品臺 | - 樣品架是可旋轉(zhuǎn)且可加熱的臺架,由帶銅蓋的陶瓷加熱器制成
- 樣品架尺寸:140 mm直徑對于4"晶圓max
- 轉(zhuǎn)速:1 - 20 rpm可調(diào),均勻涂層
- 通過數(shù)字溫度控制器,支架溫度可在*高溫度范圍內(nèi)調(diào)節(jié)至高500°C(max2小時),精度為+/- 1.0°C
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氣體流量控制 | - 安裝了兩個精密質(zhì)量流量控制器(MFC),允許兩種類型的氣體進入
- 流量: 0 – 200 mL/min可在觸摸屏控制面板上調(diào)節(jié)
- 安裝進氣閥以進行真空釋放
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真空泵站 | - 包括移動泵站,濺射涂膜機可以放置在工位底部
- 速度為80L/S的高速渦輪泵 與兩級機械泵(220 L / min)相結(jié)合,可實現(xiàn)更大真空水平和更快的抽速。
- 與腔室連接的標(biāo)準(zhǔn)真空度:<4.0E-5 Torr。(帶腔室烘烤的1.0E-6托)。
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水冷裝置 | 包括一個數(shù)字溫控循環(huán)冷水機組 - 制冷范圍: 5~35 °C
- 流速: 16 L/min
- 泵壓: 14 psi
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整體尺寸 | 蓋子關(guān)閉: 48" × 28" × 32" 蓋子打開: 48" × 28" × 37" |
凈重 | 160 kg |
售后服務(wù) | 貨物發(fā)出后,CYKY提供一年免費售后服務(wù),服務(wù)方式限于電話指導(dǎo)、視頻指導(dǎo)、郵件指導(dǎo)、配件郵寄等遠程。如需要派人現(xiàn)場服務(wù),客戶需要支付服務(wù)人員差旅費和出差期間的工資。 |
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