全自動干法激光粒度分析儀 返回列表頁

全自動干法激光粒度分析儀采用國際Mie氏散射原理和正反傅立葉變換光路，傅里葉準直鏡頭＋濾波鏡頭＋標準傅里葉變換鏡頭三鏡頭技術的采用保證了儀器的測量精度，高密度陣列探頭及全量程無縫銜接測試方法，保證了測試結(jié)果的準確性和重復性。特別的干法進樣分散系統(tǒng)采取了管道無殘留設計，保證顆粒測試過程中無顆粒沉積現(xiàn)象，不但證了測試不同樣品的準確性，還保證了第二次測試精度。測試過程全部自動完成無需任何手動操作，測試結(jié)果更加穩(wěn)定﹑準確、可靠。

產(chǎn)品特點：
非接觸式測量：全自動干法激光粒度分析儀，在干法測量過程中，樣品無需與液體接觸，避免了濕法測量中可能產(chǎn)生的顆粒團聚、溶解或化學反應等問題，保證了測量結(jié)果的準確性。
自動化程度高：全自動激光粒度分析儀集成了先進的自動化控制系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)樣品的自動進樣、測量和數(shù)據(jù)分析，大大提高了工作效率。
測量范圍廣：根據(jù)不同的型號和配置，測量范圍可覆蓋從納米級到毫米級的顆粒粒度。
結(jié)果準確可靠：采用高精度的激光光源和探測器，結(jié)合先進的算法和數(shù)據(jù)處理技術，確保了測量結(jié)果的準確性和可靠性。

產(chǎn)品參數(shù)：
測量原理：全量程激光衍射；
粒徑范圍：0.1um~800um(全量程測試)；
探測系統(tǒng)：76通道均勻交叉及面積補償多方位陣列；
激光器：進口大功率光纖輸出半導體激光器，波長635nm、功率最大20mw；
光學模型：全量程米氏散射理論，包含高濃度多重散射動態(tài)補償技術；
濾波方式：三鏡頭技術，正.反傅里葉變換鏡頭＋濾波鏡頭；
采集主板：16bit，200kps超高速采集主板，全新一代同時采集主板；
濃度范圍：遮光度3%，最高遮光度90%(光學濃度)；
鏡頭：特殊鍍膜工藝處理，光信號透過率>99.7%；
光學對中系統(tǒng)：機械中心＋光學中心雙定位全自動對中系統(tǒng)；
測量時間：典型值<10秒；
測量精度：準確性、重復性Dv50均優(yōu)于±0.5%(NIST可溯源標準樣品)；
測量方式：全自動測量
環(huán)境溫度：0°c~45°C；
環(huán)境濕度：10%~-85%相對濕度(無結(jié)凝)；
電源要求：110V~240V(±20V)，5OHz~60Hz；
執(zhí)行標準：GB/T19077-2016/ISO13320:2009；
外觀尺寸：700mm×495mm×300mm；
儀器重量：35kg。

適用范圍：
被廣泛應用于各種金屬、非金屬粉︰如重鈣、輕鈣、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤土、硅藻土、黏土、二氧化硅、石榴石、硅酸錯、氧化錯、氧化鎂、氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙?zhí)盍贤苛?、各種粉末類樣品。