干燥設備 粉碎設備 混合設備 反應設備 過濾分離設備 過濾材料 滅菌設備 萃取設備 貯存設備 傳熱設備 鍋爐 塔設備 結晶設備 其它制藥設備
伯東企業(yè)（上海）有限公司
伯東企業(yè)（上海）有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產品型號
品 牌
廠商性質代理商
所 在 地
聯(lián)系方式：朱珠查看聯(lián)系方式
更新時間：2021-10-06 17:11:04瀏覽次數(shù)：254次
聯(lián)系我時，請告知來自 制藥網暫無信息 |
上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設計提供高離子電流. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
伯東 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特性：
1.水冷 - 與 KRI 霍爾離子源 eh 1000 對比, 提供更高的離子輸出電流
2.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便
5.高效的等離子轉換和穩(wěn)定的功率控制
您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
制藥網 設計制作，未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
