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當(dāng)前位置:復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司>>飛納電鏡>>掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測(cè)>> Particle Metric掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測(cè) 電子顯微鏡
Phenom Particle Metric顆粒測(cè)試
產(chǎn)地 | 進(jìn)口 | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
---|---|---|---|
放大倍率 | 2,000,000x | 分辨率 | 1.8nm |
加速電壓 | 1kV-20kV |
使用飛納臺(tái)式掃描電鏡的顆粒統(tǒng)計(jì)分析測(cè)量系統(tǒng),以快速、簡(jiǎn)便的方式實(shí)現(xiàn)顆粒的可視化分析。顆粒統(tǒng)計(jì)分析測(cè)量系統(tǒng)支持用戶收集多種亞微米顆粒的形態(tài)和尺寸數(shù)據(jù)。
超越光學(xué)顯微鏡分析,*自動(dòng)化的飛納臺(tái)式掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測(cè)系統(tǒng)把可視化分析提高到了一個(gè)新臺(tái)階,這將在粉末設(shè)計(jì)、開發(fā)和質(zhì)量控制中產(chǎn)生進(jìn)一步的探索和創(chuàng)新。
柱狀圖、散點(diǎn)圖和生成的圖像可以選定格式導(dǎo)出,并生成報(bào)告。所有被測(cè)顆粒的柱狀圖都可以顯示為數(shù)量分布或體積分布。
散點(diǎn)圖可以從顆粒屬性的任意組合中繪制出來,以揭示相關(guān)性和趨勢(shì)。飛納臺(tái)式掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測(cè)系統(tǒng)支持用戶獲得他們需要的數(shù)據(jù)。因此,顆粒系統(tǒng)加快了顆粒分析速度,提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
顆粒系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
顆粒分析
• 顆粒尺寸范圍:100 nm – 0.1 mm
• 顆粒探測(cè)速度:高達(dá) 1000 個(gè)/分鐘
• 測(cè)量屬性:大小、形狀、數(shù)量
顆粒參數(shù):面積、圓當(dāng)量直徑、表面積、外切圓直徑、比表面積、周長(zhǎng)、縱橫比、圓度、伸長(zhǎng)率、灰度等級(jí)、長(zhǎng)軸、短
軸、凸殼體、重心 (x、y)、像素點(diǎn)數(shù)、凹凸度
圖像顯示
• 可給出線性、對(duì)數(shù)或雙對(duì)數(shù)坐標(biāo)的數(shù)量、體積分布圖
• 任意zhi定參數(shù)的散點(diǎn)圖
• 單個(gè)顆粒的掃描電鏡(SEM)圖像
復(fù)納科學(xué)儀器 (上海) 有限公司 (Phenom Scientific),負(fù)責(zé)荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡在中國(guó)市場(chǎng)的推廣和銷售,提供專業(yè)的和測(cè)試服務(wù),飛納電鏡擁有專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊(duì),提供優(yōu)化的解決方案;飛納電鏡在上海、北京、廣州設(shè)立了測(cè)試中心和售后服務(wù)中心,目前飛納在中國(guó)已經(jīng)擁有超過 1000 名用戶。
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