臺(tái)式X射線熒光光譜儀

臺(tái)式X射線熒光光譜儀Epsilon 4 任意位置

由于較低的基礎(chǔ)設(shè)施要求，可以將 Epsilon 4 放到生產(chǎn)過(guò)程中靠近生產(chǎn)線的任意位置。 其高性能使大多數(shù)應(yīng)用能夠在環(huán)境條件下運(yùn)行，從而降低氦氣或真空維護(hù)的成本。

超越分析的價(jià)值

能量色散式 X-射線熒光光譜儀可分析從碳 (C) 到镅 (Am) 的元素，涵蓋從百萬(wàn)分之一以下到 100 wt% 的濃度。

將 Omnian 用于無(wú)標(biāo)分析，當(dāng)需要快速分析鑒定時(shí)，則使用 FingerPrint 來(lái)進(jìn)行材料測(cè)試，或者使用 Stratos 來(lái)對(duì)涂層、表面層和多層結(jié)構(gòu)進(jìn)行快速、簡(jiǎn)單和非破壞性的分析。 還可以使用支持與 FDA 21 CFR 第 11 部分等法規(guī)合規(guī)的增強(qiáng)的數(shù)據(jù)安全性，或者使用 Oil-Trace 量化生物燃油混合燃料到新潤(rùn)滑油和使用過(guò)的潤(rùn)滑油。

支持各類樣品

Epsilon 4 可處理多種樣本類型，包括固體、壓片和疏松粉末、液體和濾膜。 在重量從幾毫克到幾千克的樣品上，對(duì)從碳 (C) 氟到镅 (Am) 的元素進(jìn)行非破壞性的定量分析，涵蓋從 100% 到百萬(wàn)分之一以下的濃度范圍。
Epsilon 4 是穩(wěn)健、可靠的傳統(tǒng)系統(tǒng)替代方案，已在許多行業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用，甚至在輕元素分析重要的環(huán)境中，包括：水泥生產(chǎn)、采礦、選礦、鋼鐵及有色金屬、RoHS 篩選及定量、石油和石化、聚合物及相關(guān)行業(yè)、玻璃生產(chǎn)、法醫(yī)學(xué)、
制藥、保健產(chǎn)品、環(huán)保、食品和化妝品。

臺(tái)式X射線熒光光譜儀Epsilon 4特點(diǎn)

靈活的配置

Epsilon 4 是高度靈活的分析工具，可在 10 瓦版本中用于從研發(fā)到過(guò)程控制等各個(gè)領(lǐng)域的元素分析 (F - Am)。 要實(shí)現(xiàn)更高的樣品處理量或擴(kuò)展的輕元素功能，并且處于更加具有挑戰(zhàn)性的環(huán)境，可以使用 15 瓦版本，甚至可以對(duì)碳、氮和氧進(jìn)行分析。

新發(fā)展

Epsilon 4 儀器將射線探測(cè)技術(shù)與分析軟件結(jié)合到了一起。 15 瓦 X 射線管與大電流 (3 mA)、硅漂移探測(cè)器 SDD30 以及緊湊的光路設(shè)計(jì)相結(jié)合，提供了甚至超過(guò) 50 瓦功率 EDXRF 系統(tǒng)以及臺(tái)式 WDXRF 系統(tǒng)的分析性能 - 同時(shí)還額外提高了能源利用效率。

迅速、敏感

利用可生成更高強(qiáng)度的硅漂移探測(cè)器技術(shù)實(shí)現(xiàn)迅速測(cè)量。
探測(cè)器電路提供的線性計(jì)數(shù)率可超過(guò) 1,500,000 cps（在 50% 的死時(shí)間下），和計(jì)數(shù)率無(wú)關(guān)的分辨率通常高于 135 eV，可更好地分離光譜中的分析譜線。 這使得 Epsilon 4 光譜儀能夠以全功率運(yùn)行，因此與傳統(tǒng)的 EDXRF 臺(tái)式儀器相比，實(shí)現(xiàn)了更高的樣品通量。

降低氦氣消耗量

Epsilon 4 的高性能使得許多應(yīng)用可以在空氣環(huán)境中運(yùn)行，無(wú)需較長(zhǎng)的進(jìn)樣時(shí)間和費(fèi)用來(lái)維護(hù)氦氣或真空系統(tǒng)。 在空氣中測(cè)量時(shí)，鈉、鎂和鋁的低能量 X 射線光子對(duì)氣壓和溫度變化很敏感。 內(nèi)置溫度和氣壓傳感器可補(bǔ)償這些大氣變化，確保在各種氣候條件下結(jié)果不受影響。

Epsilon 4 任意位置

由于較低的基礎(chǔ)設(shè)施要求，可以將 Epsilon 4 放到生產(chǎn)過(guò)程中靠近生產(chǎn)線的任意位置。 其高性能使大多數(shù)應(yīng)用能夠在環(huán)境條件下運(yùn)行，從而降低氦氣或真空維護(hù)的成本。

超越分析的價(jià)值

能量色散式 X-射線熒光光譜儀可分析從碳 (C) 到镅 (Am) 的元素，涵蓋從百萬(wàn)分之一以下到 100 wt% 的濃度。

將 Omnian 用于無(wú)標(biāo)分析，當(dāng)需要快速分析鑒定時(shí)，則使用 FingerPrint 來(lái)進(jìn)行材料測(cè)試，或者使用 Stratos 來(lái)對(duì)涂層、表面層和多層結(jié)構(gòu)進(jìn)行快速、簡(jiǎn)單和非破壞性的分析。 還可以使用支持與 FDA 21 CFR 第 11 部分等法規(guī)合規(guī)的增強(qiáng)的數(shù)據(jù)安全性，或者使用 Oil-Trace 量化生物燃油混合燃料到新潤(rùn)滑油和使用過(guò)的潤(rùn)滑油。

支持各類樣品

Epsilon 4 可處理多種樣本類型，包括固體、壓片和疏松粉末、液體和濾膜。 在重量從幾毫克到幾千克的樣品上，對(duì)從碳 (C) 氟到镅 (Am) 的元素進(jìn)行非破壞性的定量分析，涵蓋從 100% 到百萬(wàn)分之一以下的濃度范圍。
Epsilon 4 是穩(wěn)健、可靠的傳統(tǒng)系統(tǒng)替代方案，已在許多行業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用，甚至在輕元素分析重要的環(huán)境中，包括：水泥生產(chǎn)、采礦、選礦、鋼鐵及有色金屬、RoHS 篩選及定量、石油和石化、聚合物及相關(guān)行業(yè)、玻璃生產(chǎn)、法醫(yī)學(xué)、
制藥、保健產(chǎn)品、環(huán)保、食品和化妝品。

特點(diǎn)

靈活的配置

Epsilon 4 是高度靈活的分析工具，可在 10 瓦版本中用于從研發(fā)到過(guò)程控制等各個(gè)領(lǐng)域的元素分析 (F - Am)。 要實(shí)現(xiàn)更高的樣品處理量或擴(kuò)展的輕元素功能，并且處于更加具有挑戰(zhàn)性的環(huán)境，可以使用 15 瓦版本，甚至可以對(duì)碳、氮和氧進(jìn)行分析。

新發(fā)展

Epsilon 4 儀器將射線探測(cè)技術(shù)與分析軟件結(jié)合到了一起。 15 瓦 X 射線管與大電流 (3 mA)、硅漂移探測(cè)器 SDD30 以及緊湊的光路設(shè)計(jì)相結(jié)合，提供了甚至超過(guò) 50 瓦功率 EDXRF 系統(tǒng)以及臺(tái)式 WDXRF 系統(tǒng)的分析性能 - 同時(shí)還額外提高了能源利用效率。

迅速、敏感

利用可生成更高強(qiáng)度的硅漂移探測(cè)器技術(shù)實(shí)現(xiàn)迅速測(cè)量。
探測(cè)器電路提供的線性計(jì)數(shù)率可超過(guò) 1,500,000 cps（在 50% 的死時(shí)間下），和計(jì)數(shù)率無(wú)關(guān)的分辨率通常高于 135 eV，可更好地分離光譜中的分析譜線。 這使得 Epsilon 4 光譜儀能夠以全功率運(yùn)行，因此與傳統(tǒng)的 EDXRF 臺(tái)式儀器相比，實(shí)現(xiàn)了更高的樣品通量。

降低氦氣消耗量

Epsilon 4 的高性能使得許多應(yīng)用可以在空氣環(huán)境中運(yùn)行，無(wú)需較長(zhǎng)的進(jìn)樣時(shí)間和費(fèi)用來(lái)維護(hù)氦氣或真空系統(tǒng)。 在空氣中測(cè)量時(shí)，鈉、鎂和鋁的低能量 X 射線光子對(duì)氣壓和溫度變化很敏感。 內(nèi)置溫度和氣壓傳感器可補(bǔ)償這些大氣變化，確保在各種氣候條件下結(jié)果不受影響。