技術(shù)指標(biāo)

STRESS DOUBLE-REFRACTOMETER

用途

透明物體由于不均勻冷卻或其他如受機(jī)械作用等原因，其內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力，引起雙折射。晶體物質(zhì)本身具有雙折射的光學(xué)特征。WYL-4應(yīng)力雙折射儀采用偏振光電矢量合成及光學(xué)補(bǔ)償原理，通過(guò)對(duì)樣品的光程差的定量測(cè)定,確定樣品應(yīng)力雙折射的大小。本儀器能精確測(cè)定光學(xué)波片的光程差、確定光學(xué)玻璃的應(yīng)力級(jí)別,是光學(xué)儀器制造業(yè)*的儀器。也是研究晶體礦物質(zhì)的重要工具。它不僅在工業(yè)生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用，而且在國(guó)防、建材、地質(zhì)礦產(chǎn)、材料科學(xué)方面也占有重要地位。同時(shí),本儀器也是各大專(zhuān)院校特別理想的教學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備。

特點(diǎn)

★   直讀納米級(jí)光程差，無(wú)須計(jì)算

★   雙分視場(chǎng)零位檢測(cè)，靈敏度高

★    樣品工作臺(tái)45度自動(dòng)定位

★    體積小巧,結(jié)構(gòu)緊揍

★    操作方便,可靠實(shí)用

技術(shù)規(guī)格

    單色光波長(zhǎng):            λ=589.44nm

   光程差測(cè)定范圍 ：      ± 590 nm

    度盤(pán)格值：　　　　     5nm

    zui小讀數(shù)（1/5估讀）:     1nm        

儀器零位誤差           ±2nm   

     波片讀數(shù)重復(fù)性         1nm

      被檢樣品zui大尺寸：     寬度440mm；長(zhǎng)度440mm；高度240 mm

       光源：               220V 20W低壓鈉燈

       儀器外形尺寸：         長(zhǎng)413mm 寬250mm 高400mm