詳細(xì)摘要: 一、10T/H超濾凈水裝置概述:超濾凈水裝置其分子切割量(CWCO)一般為6000到50萬(wàn),孔徑為100nm(納米)
產(chǎn)品型號(hào):所在地:更新時(shí)間:2024-10-25 在線留言干燥設(shè)備 粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 過濾分離設(shè)備 過濾材料 滅菌設(shè)備 萃取設(shè)備 貯存設(shè)備 傳熱設(shè)備 鍋爐 塔設(shè)備 結(jié)晶設(shè)備 其它制藥設(shè)備