詳細(xì)介紹
用途:
用于碳還原法工藝做去碳等后處理;
還可用于陶瓷排膠、預(yù)燒結(jié)等工藝.
主要配置:
1.立式結(jié)構(gòu),不銹鋼爐殼 .
2.內(nèi)置承料旋轉(zhuǎn)盤有利于提高溫度均勻性.
3.PLC加觸摸屏控制模式,一鍵啟動(dòng),自動(dòng)化操作.
主要技術(shù)參數(shù):
1.高溫度:1100℃
2.工作溫度:1000℃
3.工作區(qū):820×700×1100(L×W×H)mm
4.2區(qū)控溫,5面加熱、加熱效果好.