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詳細介紹
KVF1200系列真空爐
KVF1200系列真空爐產(chǎn)品用途介紹本系列產(chǎn)品，額定溫度分別為1100℃，使用硅碳棒為加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設備。
KSX1200系列真空爐詳細介紹
1、爐外殼采用雙層爐殼結構，雙層爐殼之間通循環(huán)冷卻水，可以有效的降低爐殼表面溫度低。
2、爐門采用高溫硅橡膠密封，爐體上有進氣口、出氣口、抽真空口。
3、爐膛材料采用優(yōu)質(zhì)的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能50%，加熱元件采用康泰爾電阻絲。
4、電爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術，具有PID調(diào)節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為1℃，溫場穩(wěn)定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。
5、可以通氫氣、氬氣、氮氣等其他氣體，并能預抽真空，真空度可以達到100Pa，氣氛壓力可以達到0.1Mpa,爐體采用厚鋼板加工而成，安全可靠，符合國家標準。
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