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真空熱壓爐

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更新時間:2023-12-25 12:21:14瀏覽次數(shù):108

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產(chǎn)品簡介

設備用途本設備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結(jié)處理,以便獲得高致密度的產(chǎn)品,例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等

詳細介紹


  1. 設備用途

本設備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結(jié)處理,以便獲得高致密度的產(chǎn)品,例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等。


  1. 設備特點

1.雙層SUS304爐體結(jié)構(gòu),中間通以冷卻水,有效降低爐體表面溫度,減少高溫傷害,降低對環(huán)境的影響;
2.框架式雙立柱支承結(jié)構(gòu),采用型材焊接,整體加工,保證設備的可靠性;
3.采用保溫材料及隔熱結(jié)構(gòu),導熱系數(shù)低,保溫效果好,即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量,節(jié)約能耗;
4.溫度范圍廣,加熱元件多種可選,例如石墨、鉬、鎢、鉭等,在合適的保護氣氛中,溫度可達2800℃,可適應不同材料的熱壓燒結(jié);
5.多樣化真空系統(tǒng)配置,根據(jù)工藝選擇不同等級的真空度;
6.設有充放氣系統(tǒng),既可以選擇在真空環(huán)境中進行熱壓燒結(jié),也可以選擇在惰性氣氛或還原性氣氛中進行熱壓燒結(jié);
7.人性化配置,既可以手動操作,也可以實現(xiàn)一鍵智能操作;
8.一爐多用,可作為單純的真空或氣氛燒結(jié)爐使用;
9.型式多樣化,立式上出料、立式側(cè)開門出料、單向加壓、雙向加壓等等,任意選擇;
10.本產(chǎn)品接受非標定制。


  1. 設備參數(shù)

型號

工作區(qū) 尺寸
D×Hmm

溫度

冷態(tài)極限真空度
Pa

壓升率
Pa/h

額定功率
Kw

壓力
T

位移
mm

充氣壓力
MPa

HVHP-20T

Φ160×160

2200

5×10-3

3

40

20

100

0.05

HVHP-50T

Φ250×250

2200

5×10-3

3

75

50

150

0.05

HVHP-100T

Φ300×320

2200

5×10-3

3

100

100

150

0.05

注:以上技術(shù)參數(shù)可根據(jù)工藝進行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。




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