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隨著高分子材料工業(yè)的發(fā)展，塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領(lǐng)域。但大部分高分子材料均易于燃燒，在很多應(yīng)用領(lǐng)域中，需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度，從而達(dá)到預(yù)防火災(zāi)、減緩火勢蔓延的密度。近年來，高分子阻燃技術(shù)受到性的關(guān)注阻燃劑以及成為*于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。
作為重要的無極阻燃劑產(chǎn)品，氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環(huán)境友好、阻燃性強(qiáng)而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比，氫氧化鎂具有熱穩(wěn)定性高、成炭效率高和降酸能力強(qiáng)等特點。可以廣泛的應(yīng)用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹脂等高分子材料的阻燃和消煙。
目前，氫氧化鎂阻燃劑的超細(xì)化、納米化是主要的研究方向。在高分子材料的加工溫度下，氫氧化鎂都是以顆粒狀存在于體系中，一般而言，填充量相同時，氫氧化鎂的顆粒越細(xì)，其分散越均勻，阻燃效果越明顯，對材料物理力學(xué)性能的負(fù)面影響越小，甚至還會起到剛性粒子增塑增強(qiáng)的效果。
然而，要獲得超細(xì)的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設(shè)備，傳統(tǒng)的分散設(shè)備，一方面無法將氫氧化鎂漿料進(jìn)一步細(xì)化，另一方分散效果不佳。上海IKN結(jié)合多家阻燃劑廠家，可知，采用IKNCMSD2000系列研磨分散機(jī)對氫氧化鎂漿料進(jìn)行進(jìn)一步的研磨和分散，粒徑更小，分散更均勻，段。
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IKN研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，先研磨后分散機(jī)，因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當(dāng)中，會形成二級團(tuán)聚體，軟團(tuán)聚。需要先將團(tuán)聚體打開再進(jìn)行分散。IKN研磨分散機(jī)二級工作組，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，剪切力強(qiáng)，分散更*。
CMSD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMSD2000系列研磨分散機(jī)的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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