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科研級暗場金相顯微鏡XJ-51BD適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)等觀察研究的理想儀器。總放大倍數(shù)：50-600X
◆產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、采用了無限遠(yuǎn)光路設(shè)計(jì)。
2、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰。
4、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能。
5、整機(jī)采用了防霉處理，保護(hù)了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。
6、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
◆典型應(yīng)用：
1、電子工業(yè)制造業(yè)對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗(yàn)。
2、觀察材料表面的某些特性，3、分析金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織。
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品概述
規(guī)格參數(shù)
一、顯微鏡參數(shù)：
| 序號 | 名稱 | 技術(shù)參數(shù) |
| 01 | 平場目鏡 | WF10X/Φ22mm |
| 02 | 明暗平場物鏡 | 無限遠(yuǎn)長距PLL 5X/0.10、10X/0.25、20X/0.40、40X/0.60、60X/0.75 |
| 03 | 總放大倍數(shù) | 50X-600X |
| 04 | 觀察頭 | 雙目，鉸鏈?zhǔn)?5°傾斜 |
| 05 | 轉(zhuǎn)換器 | 五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位) |
| 06 | 粗調(diào)調(diào)焦范圍 | 粗微動同軸調(diào)焦,帶鎖緊裝置,微動格值:2μm |
| 07 | 載物臺 | 機(jī)械移動載物臺，外形尺寸：242mmX200mm，移動范圍30mmX30mm 圓形可旋轉(zhuǎn)載物臺板尺寸：外徑Ф130mm，最小通光口徑小于Ф12mm |
| 08 | 光瞳距離 | 53-75mm |
| 09 | 濾色片 | 磨砂玻璃、黃、綠、藍(lán)濾色片 |
| 10 | 暗場照明 | 12V50W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)12V50W 內(nèi)置視場光闌、孔徑光闌 |
| 11 | 偏光裝置 | 拉板式起偏器，檢偏器（可選配DIC微分干涉裝置） |
| 12 | 儀器重量 | 凈重7.0kg 毛重8.5kg |
| 13 | 儀器尺寸 | 儀器尺寸18X25X33（cm） 包裝尺寸42X35X52(cm) |
二、目鏡參數(shù)：
| 型號 T ype | 放大倍率 Magnification | 視場直徑(mm) F.O.V | 外徑(mm) Tube diameter |
| WF10X/22 | 10X | Φ22 | Φ30.0 |
三、物鏡參數(shù)：
| 放大倍率 Magnification | 數(shù)值孔徑 N.A | 分辨率 R(μm) | 工作距離WD(mm) | 共軛距離Conjugate(mm) | 齊焦距離Parfocus(mm) | 蓋玻片厚度CoverGlass(mm) |
| 5X | 0.12 | 2.10 | 9.70 | ∞ | 45 | 無 |
| 10X | 0.25 | 1.10 | 9.30 | ∞ | 45 | 無 |
| 20X | 0.40 | 0.70 | 7.23 | ∞ | 45 | 無 |
| 40X | 0.60 | 0.55 | 3.00 | ∞ | 45 | 無 |
| 60X | 0.75 | 0.42 | 1.90 | ∞ | 45 | 無 |
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