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產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
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自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) |
ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過(guò)專(zhuān)用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺(tái),將顆粒圖像信息采集下來(lái)并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中,用專(zhuān)門(mén)的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法,將目標(biāo)顆粒與背景分離,分析出各種測(cè)量參數(shù),并通過(guò)顯示器和打印機(jī)輸出。
晶體出現(xiàn)率分析儀具有超大測(cè)量范圍及高分辨率,同時(shí)具有直觀、可視、準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量參數(shù)全面等特點(diǎn)。能夠同時(shí)測(cè)量顆粒粒度、形狀及表面顏色 的新型顆粒分析儀器。
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