晶體出現(xiàn)率分析儀 返回列表頁(yè)

ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過(guò)專(zhuān)用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺(tái)，將顆粒圖像信息采集下來(lái)并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專(zhuān)門(mén)的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測(cè)量參數(shù)，并通過(guò)顯示器和打印機(jī)輸出。

    晶體出現(xiàn)率分析儀具有超大測(cè)量范圍及高分辨率，同時(shí)具有直觀、可視、準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量參數(shù)全面等特點(diǎn)。能夠同時(shí)測(cè)量顆粒粒度、形狀及表面顏色 的新型顆粒分析儀器。

產(chǎn)品介紹：ZMP960晶體出現(xiàn)率分析儀，可以直接對(duì)透明貼劑中析出的晶體進(jìn)行掃描，按照規(guī)定掃描范圍進(jìn)行掃描一定的面積，將其中的晶體識(shí)別出來(lái)并做數(shù)量統(tǒng)計(jì)。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率。