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詳細介紹
型號 | HY-ZK6016 |
電壓 | 380±10V 50Hz 三相 |
額定功率 | 15KW |
微波輸出功率 | 0.01～5.60kW 連續(xù)可調 |
微波頻率 | 2.45GHz |
工作溫度 | 氣氛保護下≤1600℃ 真空條件下≤1500℃ |
加熱空間 | Φ180×150mm(直徑×高) |
測溫方式 | 紅外測溫儀 |
測溫范圍及精度 | 300～1800℃；讀數(shù)±0.1% |
靜態(tài)極限真空度 | ≤10-3Pa |
氣氛系統(tǒng) | 多路氣氛控制管路；可充氧化氣體、惰性氣體、還原氣體等，持續(xù)保持高真空 |
加熱平臺旋轉密封 | 磁流體 |
加熱平臺旋轉速率 | 4-6rpm |
控制方式 | PLC 觸摸屏 |
控制程序 | 可設工藝參數(shù)，帶數(shù)據(jù)存儲，數(shù)據(jù)導出；可手動、自動、恒溫控制模式，曲線實時顯示；可擴展遠程無線控制模塊；一鍵式自動高真空啟動 |
氣動控制 | 控制氣動真空擋板閥門 |
防微波泄漏 | 微波泄露水平＜1mW/cm2 |
磁控管報警 | 超溫報警 |
爐門防護報警 | 爐門關緊開關 |
冷卻水報警 | 流量報警 |
移動式循環(huán)冷卻水 | 流量2m3/h，額定制冷量5.2KW |
主體部分 | 約2100×1600×2000mm（長×寬×高） |
適用于各種氣氛條件下的合成、焙燒、熱處理、燒結等工藝研究。尤能實現(xiàn)微波真空合成或燒結，并可對易受氣氛影響的實驗提供更為精細的氣氛控制
l 采用工業(yè)級微波源，微波輸出功率無級可調，確保設備連續(xù)穩(wěn)定長時間運行；
l 配置二級真空機組和二路氣氛控制系統(tǒng)，可為樣品實驗提供高真空或精細氣氛條件；
l 各種的坩堝和保溫結構供選擇，對物料無污染；
l 大幅度提高實驗效率，物料加熱速度快，均勻性好，燒結材料晶粒小，性能好。
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