全自動(dòng)內(nèi)外層雙面光刻機(jī) K4100系列 雙面光刻
序號(hào) | 系列 | K4100 | 備注 |
設(shè)備型號(hào) | KST-DI2428A-12NLB | ||
1 | 生產(chǎn)尺寸 | Max 24.5″ × 28.5″Min 12″ × 24″ | |
2 | 基材厚度 | 0.08 – 3.2mm | |
3 | 線寬解析精度 | 40um/40um | |
4 | 景深 | ±300um | |
5 | 對(duì)位精度(外層) | ±8um | |
6 | 內(nèi)層層間對(duì)準(zhǔn)精度 | 15um | |
7 | 制板速度 | 24.5″× 28.5″80mj 7.5 – 8.0 PNL /min | |
8 | 感光材料 | 干膜,濕膜 | |
9 | DMD個(gè)數(shù) | 6 × 2(共12個(gè)) | |
10 | 均勻性 | ≥90% | |
11 | 光源頻譜 | 405 nm | |
12 | 光源輸出功率 | 60W/頭 | |
曝光方式 | 雙面曝光 | ||
13 | 資料輸入 | Gerber274X;Gerber274D;ODB++ | |
14 | 圖形脹縮管理 | 固定脹縮;自動(dòng)脹縮;分區(qū)脹縮;測(cè)量脹縮; | |
15 | 掃碼MARK功能 | 打印日期;時(shí)間;序號(hào);脹縮系數(shù)等; | |
16 | 靶標(biāo)對(duì)位 | 正面對(duì)位 | |
17 | 多區(qū)域曝光 | 支持 | |
18 | 工作高度 | 1050±50mm | |
19 | 環(huán)境需求 | 溫度:22±2°C 濕度:55%±5% 萬(wàn)級(jí)無(wú)塵室 | |
20 | 電源需求 | 三相五線 380VAC/50Hz/30KVA | |
21 | 氣壓源需求 | 5.5Kg/cm2,流量500L/min | |
22 | 冰水需求 | 7-12℃,流量70L/min,壓力2-3Kg/cm2 | |
23 | 設(shè)備尺寸 | 3940mm(L)× 2820mm(W)× 2350mm(H) | |
24 | 設(shè)備重量 | 總重約9800Kg(單機(jī)重8300Kg,輸送線約重1500Kg) |