Saphir 560（Rubin 520）是新一代等徑雙盤磨拋機，它采用創(chuàng)新的磨拋頭，工作盤直徑為 200-300 mm。Rubin 520 磨拋頭配備了一個自動防護(hù)罩，為安全操作設(shè)定了新標(biāo)準(zhǔn)。單點力和中心力加載、程序存儲、集成的自動加液系統(tǒng)及材料磨削量精確控制只是其部分功能。帶氣動夾持的電動高度設(shè)置功能，結(jié)合主機的所有其他特征，saphir 560 滿足的制樣需求。磨削深度可以按照 0.01 mm的精度預(yù)設(shè)，并在制樣過程中全自動測量。在達(dá)到預(yù)設(shè)值時，制樣過程會自動停止。
■ 特 點：
帶有 Rubin520 的雙盤研磨/拋光裝置
單點力和中心力控制
磨盤速度和動力頭速度可調(diào)
觸摸屏式的電子控制
可儲存程序
動力頭可順時針/逆時針旋轉(zhuǎn)
高度和側(cè)向位置記憶功能
■ 參 數(shù)：
| 底盤 | ? 200-300 mm 雙盤 |
| 樣品數(shù)量（單點） | 1-6 樣品 ? 50 mm |
| 單點加載壓力 | 5-100 N |
| 中心加載壓力 | 基于夾持器 |
| 連接電源 | 5.5 kVA |
| 運行功率（基礎(chǔ)） | 2x 0.75 kW S6/40% |
| 運行功率（研磨控制頭部分） | 0.17 kW S1 |
| 轉(zhuǎn)速（磨石部分） | 50 - 600 rpm |
| 轉(zhuǎn)速（研磨控制頭部分） | 30 -150 rpm |
| 寬 x 高 x 深 | 1020 x 550 - 650 x 660 mm |
| 重量 | ~ 110 kg |
| 水壓 | 1x 進(jìn)水 R?" max. 6 bar |
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