- 設備特點
1.高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，真空可達10-4Pa；
2.可配合壓強控制儀控制氣體壓力，實現(xiàn)負壓的精準控制；
3.數(shù)字質量流量控制系統(tǒng)是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；
4.每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性；
5.采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；
6.管路采用世界Swagelok卡套連接，不漏氣；
7.超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠；
8.PECVD借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，更容易發(fā)生反應。
- 設備參數(shù)
類別 | 加熱爐 | 射頻電源 | 真空系統(tǒng) | 混氣系統(tǒng) | 壓強控制系統(tǒng) | 尾氣處理系統(tǒng) | ||||
溫度 | 加熱區(qū) | 型式 | 管徑 | 長度 | ||||||
CVD | 1200～1700℃ | 220～440mm | 臥式、滑動式 | Φ60～Φ100 | 600～1600 | 無 | 10Pa | MFC單路或多路控制 | 可選 |
（可選） |
CVI | 1200～1700℃ | 220～440mm | 立式、滑動式 | Φ60～Φ100 | 600～1600 | 無 | ||||
PECVD | 1200℃ | 220～440mm | 臥式、滑動式 | Φ60～Φ100 | 1200～1600 | 300～500W | ||||
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