無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導體控溫解決方案
主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。
半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
溫度范圍 | 5℃~40℃ | ||||||
控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
流量控制 | 10~25L/min 5bar max | 15~45L/min 6bar max | 25~75L/min 6bar max | ||||
制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
內(nèi)循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
制冷劑 | R410A | ||||||
載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 (DI溫度需要控制10℃以上) | ||||||
進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
溫度擴展 | 通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃ |
半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機
半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機
隨著科技的飛速發(fā)展,在這個微電子器件行業(yè)中,高精度、高穩(wěn)定性的電子設備是必要的。而為了確保這些設備的正常運行,一個關(guān)鍵的設備——頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,也扮演著一定的角色。
頂層介質(zhì)刻蝕單通道頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻電子設備的設備,它通過降低設備的溫度,保證其穩(wěn)定運行,延長其使用壽命。在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的應用范圍非常廣泛,從大型計算機服務器到小型移動設備,都需要用到它。
在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的作用不僅僅局限于冷卻設備。它還可以通過控制設備的溫度,提高設備的性能和穩(wěn)定性。例如,在一些高精度的電子設備中,溫度的變化可能會對設備的性能產(chǎn)生影響。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設備的溫度始終保持在適合狀態(tài),從而提高設備的性能和穩(wěn)定性。
除此之外,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller還可以通過提高設備的散熱效率,減少設備的故障率。在一些高溫環(huán)境下,如果電子設備無法及時散熱,就可能會導致設備過熱、損壞。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設備的散熱效率得到提高,從而減少設備的故障率。