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半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機

參考價 158390
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
  • 品       牌冠亞制冷
  • 型       號FLT-002
  • 所  在  地無錫市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2023/12/20 13:35:04
  • 訪問次數(shù)521
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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的GAO端裝備制造企業(yè),專業(yè)生產(chǎn)研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng)、超低溫冷凍機、半導體控溫Chiller、新能源用控溫控流量系統(tǒng)等專用設備,廣泛應用于醫(yī)藥化工、半導體、新能源、儲能、數(shù)據(jù)中心、太陽能光伏等領(lǐng)域。


無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗的高素質(zhì)專業(yè)設計人員的研發(fā)隊伍。特別是反應釜高精度控溫為單一介質(zhì)控制-90度~+250度連續(xù)控溫,并且高精度線性控制反應釜物料溫度。產(chǎn)品溫度范圍涉及-152度到350度。


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我們的成功源自于不懈地幫助客戶提高生產(chǎn)力。



制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、超低溫保存箱、藥品穩(wěn)定性測試箱、試驗箱、培養(yǎng)箱、加熱制冷恒溫槽等設備。
產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品大小 小型
產(chǎn)品新舊 全新 結(jié)構(gòu)類型 半封閉式,立式
結(jié)構(gòu)類型 半封閉式,立式 溫度 低溫冷水機
【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機
半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機 產(chǎn)品信息


無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,

?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。


半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:


半導體專溫控設備

射流式?低溫沖擊測試機

半導體專用溫控設備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風控溫裝置

半導體?低溫測試設備

電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源

射流式高低溫沖擊測試機

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案




型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃




半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機

半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機


  隨著科技的飛速發(fā)展,在這個微電子器件行業(yè)中,高精度、高穩(wěn)定性的電子設備是必要的。而為了確保這些設備的正常運行,一個關(guān)鍵的設備——頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,也扮演著一定的角色。

  頂層介質(zhì)刻蝕單通道頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻電子設備的設備,它通過降低設備的溫度,保證其穩(wěn)定運行,延長其使用壽命。在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的應用范圍非常廣泛,從大型計算機服務器到小型移動設備,都需要用到它。

  在微電子器件行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的作用不僅僅局限于冷卻設備。它還可以通過控制設備的溫度,提高設備的性能和穩(wěn)定性。例如,在一些高精度的電子設備中,溫度的變化可能會對設備的性能產(chǎn)生影響。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設備的溫度始終保持在適合狀態(tài),從而提高設備的性能和穩(wěn)定性。

  除此之外,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller還可以通過提高設備的散熱效率,減少設備的故障率。在一些高溫環(huán)境下,如果電子設備無法及時散熱,就可能會導致設備過熱、損壞。而通過使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller,可以確保設備的散熱效率得到提高,從而減少設備的故障率。




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