◆多AES 和化學處理研究的理想工具。
◆高火焰溫度高,形狀易控制,的等離子體密度,在與被處理材料產(chǎn)生有利的化學作用后,能快速沉積SiO2,金剛石膜等多種材料
◆微波功率輸出穩(wěn)定性高。
◆廣泛用于SiO2、金剛石膜等材料的快速CVD合成;多種金屬材料的表面改性處理;花崗巖片的表面精細加工;超微細粉的制備;材料的精細焊接和切割等。
◆適應于多種氣體,性能*,安全、可靠性強、重現(xiàn)性好,操作簡便。
◆多參數(shù)實時監(jiān)測、采集與記錄,計算機控制,多重聯(lián)鎖保護與報警。
(1) | 型號 | HMPT-209 |
(2) | 電源 | AC380±10% V 三相五線制 50Hz |
(3) | 微波輸出功率 | 0.2~1.0kW 連續(xù)可調(diào) |
(4) | 功率穩(wěn)定度 | ≤±1%(@額定功率) |
(5) | 微波頻率 | 2450MHz±50MHz |
(6) | 波導接口 | BJ22,BJ26 |
(7) | 工作氣壓 | 100 Torr 至大氣壓 |
(8) | 微波泄漏值 | <5mW/cm2 |
(9) | 工作環(huán)境 | 溫度15~40℃,相對濕度≤60%,無腐蝕性氣體 |