ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡全部采用新型鏡筒（GEMINI）設計，具有優(yōu)良的高、低加速電壓性能；InLens設計是目前真正的內(nèi)置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，其具有靈敏度和高的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有分辨率和圖像質(zhì)量，二次電子探測器和背散射電子探測器均內(nèi)置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。創(chuàng)造性的采用電磁、靜電復合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像。
SIGMA是一臺高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。系統(tǒng)采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計，提供高真空成像功能，可對各種材料表面作分析。并且具有業(yè)界的X射線分析條件，樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵滿足快速的樣品更換和無污染成像分析。
主要參數(shù)：
1. 工作條件
1.1. 電源電壓：220V±10V, 單相 50Hz
1.2. 工作溫度：
1.3. 接地：獨立的接地線
1.4. 儀器運行的持久性：長時間連續(xù)工作
1.5. 磁場：≤ 3 mGauss
1.6. 濕度：≤ 60% RH
2. 性能
2.1. 分辨本領
二次電子像分辨率：
1.3nm (20 kV)
調(diào)整范圍：100 V～30 kV
2.3. 探針電流：
4 pA～20 nA 穩(wěn)定性: 優(yōu)于 0.2%/h
2.4. 放大倍率：
放大倍數(shù)調(diào)整：粗、細調(diào)模式連續(xù)可調(diào)
預設定：可從用戶菜單中選擇設定值
自動補償：隨著工作距離或加速電壓的變化，自動精確校正放大倍數(shù)。
校準：對于圖像輸出裝置的改變，自動精確校正放大倍數(shù)。
3. 電子光學系統(tǒng)
3.1. 電子發(fā)射源：
3.2. 透鏡系統(tǒng)：
3.3. 聚焦：
控制：具有靈敏度與放大倍數(shù)相關的粗調(diào)和細調(diào)。
自動聚焦控制：粗調(diào)、細調(diào)。
聚焦補償：在整個加速電壓變化范圍內(nèi)，自動補償。
動態(tài)聚焦：對傾斜樣品進行聚焦矯正。
旋轉(zhuǎn)補償：自動矯正由于工作距離的變化引起的圖像旋轉(zhuǎn)。
傾斜補償：自動矯正由于樣品傾斜引起的放大倍數(shù)變化。
3.4. 消像散器
八極電磁式系統(tǒng)
3.5. 光欄
數(shù)量：不少于 5個
調(diào)整：電磁選擇和軟件調(diào)整
3.6. 掃描
掃描速率：0.1秒/幀～30分/幀（或更寬）
掃描方式：全幀、選區(qū)、定點、線掃描、掃描旋轉(zhuǎn)、傾斜補償
3.7. 電子束位移
4. 樣品室
4.1. 樣品室尺寸：
4.2. 樣品尺寸：
4.3. 樣品置換時間（抽真空時間）：不大于 5分鐘
4.4. 附件接口：
在樣品室上提供不少于六個附件接口，可同時接X射線能譜、背散射電子探測器等。
4.5. 樣品臺
類型：5軸馬達驅(qū)動
裝配方式：抽屜式拉門。
控制：雙操縱桿控制盒
移動范圍: X：
R：360°連續(xù)可調(diào)
5. 探測器
5.1. 探測器類型
鏡筒內(nèi)（In-lens）二次電子探測器
樣品室二次電子探測器
背散射電子探測器
CCD 攝像機
5.2. 控制
自動對比度/亮度
6. 信號選擇
二次電子信號、背散射電子信號等，任何二個通道信號都可進行混合，以獲取更佳的圖像效果。
7. 圖像顯示
7.1. 存儲分辨率:不小于 3k x 2k像素
7.2. 顯示分辨率:1024 x 768像素
7.3. 降噪處理：像素平均、連續(xù)平均、幀和行疊加
7.4. 具有數(shù)據(jù)區(qū)、狀態(tài)顯示、圖像注釋和測量功能
7.5. 可在Windows支持的外部設備上存儲及打印圖像
8. 顯示器：19" 液晶顯示器
9. 計算機環(huán)境（配置）
9.1. 處理器：CPU：Intel P4 3.2GHz。內(nèi)存：512MB
9.2. 操作系統(tǒng)：Microsoft Windows XP
9.3. 外界接口：串行、并行、SCSI、USB 2.0接口、網(wǎng)絡。
9.4. 磁盤驅(qū)動器：
9.5. 電鏡控制操作軟件。
10. 真空系統(tǒng)：
全自動控制
樣品室極限真空度：優(yōu)于2.0×10-4Pa
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