超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
三種制備電子工業(yè)用超純水的工藝比較
目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種,其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來。現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點(diǎn)分別列于下面:
1、種采用離子交換樹脂其優(yōu)點(diǎn)在于初投資少,占用的地方少,但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生,耗費(fèi)大量酸堿,而且對環(huán)境有一定的破壞。
2、第二種采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換設(shè)備,其特點(diǎn)為初投次比采用離子交換樹脂方式要高,但離子設(shè)備再生周期相對要長,耗費(fèi)的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。
3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子(EDI)裝置,這是目前制取超純水***經(jīng)濟(jì),***環(huán)保用來制取超純水的工藝,不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水,對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。