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日立SU3800鎢燈絲掃描電鏡 電子顯微鏡

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海曼戈斐光學(xué)技術(shù)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/12/20 9:37:25
  • 訪問次數(shù)611
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曼戈斐集團(tuán)(以下簡(jiǎn)稱MEGPHY)成立于2011年,是一家專業(yè)從事光學(xué)測(cè)量?jī)x器銷售和技術(shù)支持的公司。公司由具備多年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)應(yīng)用工程師、技術(shù)工程師和營(yíng)銷專員組成,致力于為用戶提供高效、精準(zhǔn)的解決方案,并提供包括產(chǎn)品測(cè)試、產(chǎn)品咨詢、裝機(jī)調(diào)試及培訓(xùn)、售后維護(hù)保養(yǎng)及升級(jí)等服務(wù)。我們堅(jiān)持以為廣大客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和售后服務(wù)為企業(yè)信念,客戶來自包括半導(dǎo)體、3C、攝像頭模組、汽車工業(yè)、新能源技術(shù)、印刷和造紙工業(yè)、國(guó)防安全、醫(yī)療器械、機(jī)械加工技術(shù)以及新材料研究等眾多領(lǐng)域。 MEGPHY專注于標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品以及定制化的解決方案,我們同眾多光學(xué)廠商合作,包括德國(guó)Mahr、美國(guó)SOLARIUS、德國(guó)ZEISS、日本Nikon、法國(guó)CSI等,產(chǎn)品涵蓋3D共聚焦顯微鏡、3D線掃描輪廓儀、掃描電鏡、原子力顯微鏡、工業(yè)CT、X-RAY、光學(xué)元件測(cè)量工作站、CNC全自動(dòng)影像測(cè)量?jī)x、三坐標(biāo)、工業(yè)光學(xué)顯微鏡、SMT基板清潔機(jī)等。我們堅(jiān)持本地化、定制化方針,為中國(guó)制造業(yè)客戶提供專業(yè)性的解決方案。我們充分了解客戶要求和預(yù)算,深入整合光學(xué)技術(shù)和定制化的數(shù)據(jù)獲取、數(shù)據(jù)分析軟件,最終給客戶提供高精度、高效率、高性價(jià)比的三維尺寸測(cè)量系統(tǒng)。我們的產(chǎn)品將高分辨率傳感器與自動(dòng)化數(shù)據(jù)獲取、強(qiáng)大的分析軟件結(jié)合在一起,為客戶提供包括實(shí)驗(yàn)室精密檢測(cè)、快速高精度半自動(dòng)生產(chǎn)線檢測(cè)以及大批量自動(dòng)上下料在線檢測(cè)等多種解決方案。截至目前我們已在中國(guó)安裝了超過2800臺(tái)設(shè)備,感謝你們的信賴和支持,MEGPHY將持續(xù)為更多的新老客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。
金相顯微鏡
日立全新一代高分辨鎢燈絲掃描電鏡SU3800采用全新的HexBias偏壓技術(shù),使其低電壓性能大大提升,同時(shí)升級(jí)的高靈敏度背散射探測(cè)器和可變壓力探測(cè)器使得SU3800的觀察能力進(jìn)一步提升
日立SU3800鎢燈絲掃描電鏡 電子顯微鏡 產(chǎn)品信息
日立全新一代高分辨鎢燈絲掃描電鏡SU3800采用全新的HexBias偏壓技術(shù),使其低電壓性能大大提升,同時(shí)升級(jí)的高靈敏度背散射探測(cè)器和可變壓力探測(cè)器使得SU3800的觀察能力進(jìn)一步提升。SU3800還增加了IFT燈絲監(jiān)控技術(shù)、全新的光鏡導(dǎo)航、集成的能譜以及報(bào)告導(dǎo)出等功能,使其操作也變得更為簡(jiǎn)單。
主要特點(diǎn):  
· HexBias偏壓鎢燈絲電子槍;  
· 優(yōu)異的高、低電壓性能; 
· 高靈敏度五分割背散射電子探測(cè)器;  
· 可變壓力二次電子探測(cè)器(高、低真空可用);  
· 全新的操作界面和光鏡導(dǎo)航功能;  
· 全自動(dòng)燈絲設(shè)定和合軸;  
· 報(bào)告導(dǎo)出和圖片處理;  
· 可集成的EDS;  
· 簡(jiǎn)單方便的維護(hù)(燈絲更換視頻); 
應(yīng)用領(lǐng)域: 材料科學(xué)、生命醫(yī)學(xué)、食品衛(wèi)生、半導(dǎo)體電子元器件、汽車制造等。
主要參數(shù):

電子槍預(yù)對(duì)中鎢燈絲
加速電壓0.3kV – 30kV
分辨率3.0nm@30kV (SE)
15.0nm@1kV (SE)
4.0nm@30kV (BSE, LV)
放大倍率5x – 300,000x(底片倍率)
7x – 800,000x(顯示器倍率)
探測(cè)器二次電子探測(cè)器,高靈敏度無分割背散射電子探測(cè)器
可變壓力探測(cè)器UVD 2.0*
低真空可變壓力范圍6 – 650Pa
樣品臺(tái)(三軸馬達(dá))X: 0 - 100 mm
Y: 0 – 40 mm
Z: 5 – 65 mm
R: 0 – 360°
T: -20° - +90°
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