精密光學(xué)鍍膜設(shè)備

應(yīng)用范圍：

該設(shè)備采用 e 型電子槍蒸發(fā)源，可蒸發(fā)各種高熔點(diǎn)金屬和氧化物，可在玻璃，塑料,陶瓷基體上鍍制各種多層薄,如:紅外膜、寬帶增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干截止濾光片、偏振膜、電學(xué)膜，適用于眼鏡、光學(xué)鏡頭、精密光學(xué)元件、激光和電子行業(yè)的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn).

主要特點(diǎn)：

l       電子槍輸出功率穩(wěn)定，特殊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)有效杜絕二次電子的產(chǎn)生和電子槍打火。

l       轉(zhuǎn)動(dòng)采用磁流體引入,長期運(yùn)轉(zhuǎn)密封可靠。

l       工件轉(zhuǎn)動(dòng)座多重水冷和重力導(dǎo)向設(shè)計(jì)，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)可靠，徑向和軸向跳動(dòng)3-5mm。

l       采用PLC+觸摸屏控制, 多重泵閥水電互鎖互保護(hù)，可全程自動(dòng)控制,包括真空系統(tǒng),烘烤系統(tǒng),整個(gè)蒸發(fā)鍍膜過程。

l       安裝采用全程四極質(zhì)譜監(jiān)控和氦質(zhì)譜檢漏, 真空密封性好, 設(shè)備工藝穩(wěn)定可靠。

l       所有零部件采用國內(nèi)廠家, 電器元件采用進(jìn)口或合資企業(yè)產(chǎn)品, 設(shè)備24小時(shí)連續(xù)長期運(yùn)行可靠穩(wěn)定。

基本參數(shù)：

1.      立式前開門結(jié)構(gòu)，不銹鋼真空室Φ1300X1500mm

2.      極限真空：1×10^-4Pa（空載清潔真空系統(tǒng)，300°烘烤后）。

3.      恢復(fù)真空時(shí)間：大氣至4×10^-3Pa≤15min。

4.      大抽速主泵，KT-630型擴(kuò)散泵（18000L/s）兩臺(tái)，配備防湍流裝置。

5.      工件轉(zhuǎn)動(dòng)：采用磁流體密封轉(zhuǎn)動(dòng)裝置，轉(zhuǎn)動(dòng)座多重水冷和重力導(dǎo)向設(shè)計(jì)，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)可靠。

6.      工件烘烤：桶狀上烘烤,三點(diǎn)控溫,烘烤溫度350°。

7.      永磁E型電子槍，槍功率10KW/支；可配置單槍或雙槍，多穴坩堝和環(huán)形坩堝。

8.      配備美國Inficon公司生產(chǎn)的SQC310C 或IC6型石英晶體膜厚控制儀。

9.      10英寸觸摸屏和歐姆龍（PLC）編程控制器，對(duì)設(shè)備真空系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、工件轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)等進(jìn)行監(jiān)測(cè)和控制，可采用自動(dòng)和手動(dòng)兩種模式。

10.  可選配Φ16CM的離子源或深冷低溫冷阱。