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電流體噴印設(shè)備-HEIJ-P型

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱廣州譽(yù)立電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/18 20:10:46
  • 訪問次數(shù)266
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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廣州譽(yù)立電子科技有限公司是一家集科、工、貿(mào)于一體的公司——公司總部設(shè)立在廣州,致力于成為一家綜合性專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)、技術(shù)服務(wù)及銷售于一體的公司。
廣州譽(yù)立電子科技有限公司經(jīng)營教學(xué)科研實(shí)驗(yàn)室設(shè)備及提供產(chǎn)品研發(fā)設(shè)計(jì)輔助服務(wù), 我們配備了專業(yè)的工程師及銷售人員,經(jīng)過*在各高等院校、高中職院校、大中型企業(yè)的扎根與服務(wù),與廣大用戶建立起了良好的溝通渠道,拉近了服務(wù)距離,及時(shí)解決用戶的需求與遇到的問題,贏得了廣泛的贊譽(yù)及肯定,使公司獲得越來越多的信任和支持。 我公司主要經(jīng)營范圍有:
    一、儀器方面:包括光電、物理、建筑、化學(xué)、食品、生物等方面的實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備及其維修服務(wù);
    二、光學(xué)平臺(tái):公司開發(fā)了多款國內(nèi)技術(shù)指標(biāo)的光學(xué)平臺(tái);
    三、技術(shù)服務(wù):為您提供一體化光機(jī)電研發(fā)、優(yōu)化設(shè)計(jì)并提供全面解決方案,助力您的新產(chǎn)品研發(fā) 。經(jīng)過近多年的努力實(shí)踐, 我們?cè)诠鈱W(xué)元件、光學(xué)部件、光學(xué)儀器、醫(yī)療設(shè)備整體設(shè)計(jì)等方面積累了豐富的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、檢測、組裝及調(diào)試經(jīng)驗(yàn),具備完整的設(shè)計(jì)生產(chǎn)體系.我們的產(chǎn)品涉及聚焦、擴(kuò)束、放映、光纖輸出、遠(yuǎn)心成像、微顯等種類.主要用于影像、工業(yè)印刷、彩擴(kuò)、自動(dòng)控制等領(lǐng)域。光學(xué)元件成品種類豐富,工藝*,擁有國內(nèi)生產(chǎn)、檢驗(yàn)設(shè)備,更重要的是我們有一批經(jīng)驗(yàn)豐富的設(shè)計(jì)及裝調(diào)人員。
  廣州譽(yù)立電子科技有限公司一貫秉持“價(jià)值、責(zé)任、使命”的企業(yè)精神,視為客戶和員工創(chuàng)造價(jià)值為企業(yè)目標(biāo),視企業(yè)信譽(yù)為企業(yè)*責(zé)任,肩負(fù)起社會(huì)責(zé)任,始終堅(jiān)持以優(yōu)質(zhì)服務(wù)為宗旨,把滿意地解決顧客的需求作為我們工作的榮耀,為廣大客戶提供貼心、好的采購體驗(yàn)。

光纖光譜儀,光學(xué)平臺(tái),光譜儀,光具座
電流體噴印設(shè)備-HEIJ-P型
電流體噴印設(shè)備-HEIJ-P型 產(chǎn)品信息

廣州譽(yù)立電子科技代理的科研型電流體噴印設(shè)備,源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎(jiǎng)和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎(jiǎng);配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級(jí)點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。

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產(chǎn)品介紹

 HEIJ系列科研型電流體噴印設(shè)備,源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎(jiǎng)和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎(jiǎng);配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級(jí)點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。


規(guī)格指標(biāo):

型號(hào)說明

P:專業(yè)級(jí)微納圖案化平臺(tái)

設(shè)備特點(diǎn)

一體機(jī)、專業(yè)級(jí)平臺(tái)、可定制化

供墨系統(tǒng)

精密氣壓+流量泵 雙供墨

高壓電源

±5000V@多種波形

打印頻率

~10000Hz

打印基臺(tái)

210×210mm2,真空吸附、加熱~100℃

打印速度

3DOF@500mm/s

定位/重復(fù)精度

±3μm / ±1μm

視覺系統(tǒng)

高倍觀測相機(jī)+精密定位相機(jī)

圖形格式

支持矢量圖、位圖,內(nèi)置基本圖元(HEIJ-P支持曲面打?。?/span>

工藝指標(biāo)

點(diǎn)噴最小直徑 <1μm、打線最小線寬  <1μm、制膜最小厚度 ~50nm



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