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EBPG5150 電子束光刻機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/14 8:35:30
  • 訪問次數(shù)321
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
德國Raith EBPG5150 電子束光刻機(jī),可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。高束流密度,熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換155mm的平臺(tái)。最小曝光特征尺寸小于8nm,高速度曝光,可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器。在所有KVs加速電壓下,可連續(xù)改變的寫場(chǎng)大小,可以到1mm。GUI人機(jī)交互界面友好,簡潔易用,適用于多用戶環(huán)境多項(xiàng)靈活可選擇的配置,可以適......
EBPG5150 電子束光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

EBPG5150 電子束光刻機(jī)



詳細(xì)介紹

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái),采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì),對(duì)電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。

高束流密度,熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換155mm的平臺(tái)。最小曝光特征尺寸小于8nm,高速度曝光,可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器。在所有KVs加速電壓下,可連續(xù)改變的寫場(chǎng)大小,可以到1mm。GUI人機(jī)交互界面友好,簡潔易用,適用于多用戶環(huán)境多項(xiàng)靈活可選擇的配置,可以適用于不同應(yīng)用的需求。

可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升級(jí)

EBPG5150可以選擇不同的升級(jí)選項(xiàng),以滿足用戶不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓的高校等研究類用戶也可以使用這款非常*、高自動(dòng)化的電子束光刻系統(tǒng)。

EBPG5150 應(yīng)用

· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

· 微盤諧振器

· 開口環(huán)諧振器

EBPG5150 產(chǎn)品詳情

主要應(yīng)用:

· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結(jié)構(gòu)

· 高速電子束直寫

· 批量生產(chǎn),如化合物半導(dǎo)體器件

· 防偽標(biāo)識(shí)

電子光學(xué)柱技術(shù):

· EBPG

· 電子束

· 100 kV

樣品臺(tái):

· 覆蓋完整6英寸硅片大小

· 標(biāo)配2工位自動(dòng)化上料(10工位可選)

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