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Plasmalab System100 英國(guó)Oxford 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

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  • 公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/13 20:24:10
  • 訪問(wèn)次數(shù)311
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶(hù)特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性?xún)r(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶(hù)提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶(hù)群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶(hù)需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性?xún)r(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶(hù)提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
Plasmalab System100 英國(guó)Oxford 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,基本溫度低,沉積速率快,成模質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。
Plasmalab System100 英國(guó)Oxford 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 產(chǎn)品信息

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(Oxford Plasmalab System100 PECVD)



原理:


·在保持一定壓力的原料氣體中,借助射頻功率產(chǎn)生氣體放電,使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體。在氣體放電等離子體中,由于低速電子與氣體原子碰撞,產(chǎn)生正、負(fù)離子之外,還會(huì)產(chǎn)生大量的活性基,從而大大增強(qiáng)反應(yīng)氣體的化學(xué)活性。這樣,在相對(duì)較低的溫度下,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。由于PECVD技術(shù)是通過(guò)反應(yīng)氣體放電來(lái)制備薄膜的,有效的利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式。

一般說(shuō)來(lái),采用PECVD技術(shù)制備薄膜材料時(shí),薄膜的生長(zhǎng)主要包含以下三個(gè)基本過(guò)程:
首先,在非平衡等離子體中,電子與反應(yīng)氣體發(fā)生初級(jí)反應(yīng),使得反應(yīng)氣體發(fā)生分解,形成離子和活性基團(tuán)的混合物;

其二,各種活性基團(tuán)向薄膜生長(zhǎng)表面和管壁擴(kuò)散運(yùn)運(yùn)輸運(yùn),同時(shí)發(fā)生各反應(yīng)物之間的次級(jí)反應(yīng);左后,到達(dá)生長(zhǎng)表面的各種初級(jí)反應(yīng)和次級(jí)反應(yīng)產(chǎn)物被吸附并于表面發(fā)生反應(yīng),同時(shí)伴隨有氣相分子物的再放出。
PECVD的優(yōu)點(diǎn)是:基本溫度低,沉積速率快,成模質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。


技術(shù)指標(biāo):


·可蒸發(fā)不同厚度的SiO2 和SiNx薄膜,廣泛應(yīng)用于物理,生物,化學(xué),材料,電子等領(lǐng)域。
·沉積薄膜種類(lèi):SiO2,SiNx,SiONx
·基底溫度:小于400℃
·薄膜均勻性:±3%(4英寸)
·裝片:小于6英寸的任意規(guī)格的樣品若干

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