應(yīng)用特點:
晶體半導體、集成電路芯片、計算機硬盤、顯示器、液晶顯示制造過程中的純水、超純水;
工藝中清洗用純水??刹捎萌詣宇A處理單元,PLC電控系統(tǒng)、低壓停水保護。
該設(shè)備脫鹽率高、膜使用壽命長、設(shè)備運行可靠、低能耗、低噪音。
系統(tǒng)設(shè)置產(chǎn)水超標自動排放報警,手動、自動沖洗,無水停機,高低壓保護及液位控制等功能。
產(chǎn)水水質(zhì):
TOC<10ppb 顆粒達到0.5μm≤200個/L
二氧化硅SiO2<5ppb 電阻率≤18.25MΩ.cm(25℃)
工藝流程:預處理→雙級反滲透主機→EDI→拋光混床