產(chǎn)品介紹
概要
實時的干涉測量設(shè)備,提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測。單色光打在樣品表面,由于膜厚和高度變化導致不同的光路長度時,使用干涉測量法。通過循環(huán),系統(tǒng)能在監(jiān)控區(qū)使用實時監(jiān)測的方法計算蝕刻和鍍膜的速度,在規(guī)定的膜厚和槽深來進行終點檢測?;谶@個相對簡單的理論,系統(tǒng)不但非常穩(wěn)定,并且可用于復(fù)雜的多層薄膜。
特征
- 監(jiān)測透明薄膜的厚度和高度,如GaN,ALGaN,SiO2 和SiN。
- 適用于等離子體頻譜分析。
- 生產(chǎn)線使用內(nèi)置軟件。
- 終點檢測法的靈活應(yīng)用。
- *的加工特點。