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膜厚控制儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CY-FDC-S
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2020/12/31 20:50:09
  • 訪問次數(shù)1410
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊(duì)”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國(guó)內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國(guó)內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國(guó)訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國(guó)家,并在國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界*。 如果您正在被國(guó)貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國(guó)貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡(jiǎn)單介紹: CY-FDC-S膜厚控制儀適用于電子束鍍膜、磁控濺射、電阻熱蒸發(fā)等各種鍍膜厚度控制場(chǎng)合。與蒸發(fā)源形成閉環(huán)控制,實(shí)時(shí)控制和顯示完整的鍍膜數(shù)據(jù),包括功率、速率、厚度和所用時(shí)間,可鍍制復(fù)雜的光學(xué)和金屬多層薄膜,通過觸摸屏控制實(shí)現(xiàn)各種操作,較傳統(tǒng)的按鍵操作更為直觀易懂。儀器編程極為方便,總共可設(shè)置8個(gè)膜系,每個(gè)膜系100......
膜厚控制儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

膜厚控制儀

技術(shù)特點(diǎn):

1. 全觸屏操作,簡(jiǎn)單易用;

2.32個(gè)膜系,每膜系50/100層自動(dòng)鍍膜;

3. 12路信號(hào)輸入/12路開關(guān)量輸出;

4. 提供全自動(dòng)、半自動(dòng)、手動(dòng)控制模式;

5.可控制2個(gè)源,一套工作另一套預(yù)溶;


技術(shù)參數(shù)

 

CY-FDC-S控制儀

晶振頻率

6MHz(可選2.5M 3M 5M 9M晶體)

顯示方式

5”彩色觸屏+數(shù)碼管顯示速率和實(shí)厚

操作方式

 觸摸屏

終    厚

00μ0000?-99μ9999?

厚度顯示分辨率

1?/s

速率顯示分辨率

0.1?/s

鍍膜層數(shù)

32膜系,每膜系50/100層;

探頭數(shù)量

A  B

工具因子

0.01-99.99

時(shí)間顯示   

00:00:00-23:59:59 H:M:S

功率顯示

0~99.9%

預(yù)熔功率

 0~99%

預(yù)鍍功率

0~99.9%

預(yù)熔時(shí)間/預(yù)鍍時(shí)間

0~99:99  m:s

預(yù)熔保溫時(shí)間

/預(yù)鍍保溫時(shí)間

  0~99:99  m:s

鍍膜速率(設(shè)定速率)

  0~999.9?/s

材料存儲(chǔ)

257+自定義10種

通  訊

RS232/RS485

可控蒸發(fā)源

2個(gè),可一套工作另一套預(yù)溶

輸出控制

±10V/5V/2.5V

I/接口

12路信號(hào)輸入/12路開關(guān)量輸出

可控坩堝數(shù)量

1-16個(gè)

鍍膜顯示

速率曲線/數(shù)值

鍍膜巡回次數(shù)

每膜系50/100層自動(dòng)

機(jī)箱尺寸

                      480×280×89mm(2U 19”機(jī)箱)


特殊功能:

1、手動(dòng)、半自動(dòng)、自動(dòng)3種鍍膜模式,滿足多種鍍膜機(jī)配置;

2、人工停止鍍膜:鍍膜過程中人工終止鍍膜;

3、手動(dòng)控制:確定初次鍍膜工藝要求;

4、中斷膜系:自動(dòng)和半自動(dòng)鍍膜中發(fā)現(xiàn)問題或出現(xiàn)故障,能停止鍍膜并能自動(dòng)保存當(dāng)前狀態(tài),待故障**后,可從中斷膜系繼續(xù)鍍膜;

5、自動(dòng)或半自動(dòng)鍍膜時(shí),如晶振失效,可選擇按終止鍍膜、按當(dāng)前功率時(shí)間鍍膜、切換晶片繼續(xù)(多晶片探頭);

6、兩個(gè)源同時(shí)預(yù)熔:當(dāng)前層鍍膜開始過程中,可選擇同時(shí)對(duì)第2層進(jìn)行預(yù)熔,以滿足對(duì)時(shí)間要求緊張的場(chǎng)合;

7、密碼保護(hù):膜系和膜層參數(shù)密碼保護(hù)功能,保護(hù)工藝參數(shù)不被非工藝人員修改;

8、鍍膜數(shù)據(jù)記錄:自動(dòng)或半自動(dòng)鍍膜時(shí),系統(tǒng)可記錄每層膜的成膜時(shí)間、*終厚度速率參數(shù)。



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