一、此設(shè)備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經(jīng)典的閉環(huán)負(fù)反饋控制系統(tǒng)，控溫儀表選用智能型程序溫度調(diào)節(jié)儀表控溫，電力調(diào)制器控制；負(fù)載采用小電壓大電流控制，從而大大提高了發(fā)熱元件的壽命，測溫元件采用 K 型熱偶。30段可編程控溫，PID參數(shù)自整定，操作界面為10寸工控電腦，內(nèi)置PLC控制程序，可將溫控系統(tǒng)、滑軌爐滑動（時(shí)間和距離）設(shè)定為程序控制。同時(shí)系統(tǒng)設(shè)置了超溫、 欠溫、斷偶報(bào)警保護(hù)功能，大大降低了對操作人員經(jīng)驗(yàn)的要求，關(guān)鍵電氣元件采用優(yōu)質(zhì)的進(jìn)口產(chǎn)品，做到高性能、免維護(hù)，提高了設(shè)備質(zhì)量的可靠性。
二、PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式,低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn)，工藝流程簡單。
技術(shù)參數(shù)
設(shè)備整體結(jié)構(gòu) | |
加熱原件 | 電阻絲 |
額定電壓 | AC220V/380V 50/60HZ |
功率 | 7KW |
zui高溫度 | 1200℃ |
爐管尺寸 | 外徑Φ60*2330mm |
加熱區(qū)長度 | 230+230+230mm |
控溫方式
| 模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能化30段可編程控制。 觸屏操控界面 |
設(shè)備重量 | 約300KG |
三溫區(qū)滑軌爐 |
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加熱區(qū)長度 | 230mm+230mm+230mm |
爐管長度 | Φ60*2330mm 壁厚3mm |
控溫精度 | ±1°C |
控溫方式 | 模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報(bào)警功能 |
密封方式 | 不銹鋼真空法蘭密封 |
射頻電源 | |
信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% |
功率輸出范圍 | 5W-500W |
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female |
功率穩(wěn)定度 | ±0.1% |
諧波分量 | ≤-50dbc |
冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷 |
真空部分 |
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真空泵 | DRV-16 |
泵抽速 | 16m³/h |
極限真空 | 5X10-1Pa
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