Suflux® 納米均質(zhì)分散機(jī) (HPH:High Pressure Homogenizer)
技術(shù)與應(yīng)用 For產(chǎn)品
Autoclave 微射流高壓納米分散機(jī)
常規(guī) (動(dòng)態(tài)類型) 技術(shù)
一般用于牛奶和乳制品的閥門調(diào)節(jié)( 1 或 2 級(jí))
Suflux® ’ 的納米分散技術(shù) (靜態(tài)類型)
新技術(shù)的出現(xiàn)要求先進(jìn)的材料處理，尤其是化學(xué)，電子材料。
樣品的供給和排出可以通過(guò)柱塞來(lái)完成，從左到右依次移動(dòng)。
柱塞的移動(dòng)導(dǎo)致相互作用使分散單元內(nèi)壓力升高。
當(dāng)高壓流體樣品通過(guò)相互作用的分散單元時(shí)，其速度突然增加到跨音速流體（馬赫數(shù) ）并引起剪切機(jī)和空穴作為分散的動(dòng)力源。
• Mach 1 = 331m/sec
Interaction Chamber（分散單元） (Suflux®’ 的關(guān)鍵技術(shù))
剪切力
金剛石分散單元
Z 型 (從 75 µm, 單孔 ) Y 型 (從 75 µm), (單孔或者多孔)
Interaction Chamber（分散單元）Z型和Y型
Autoclave 微射流高壓納米分散機(jī)
類型：Z 和 Y: (Z (單孔)用于實(shí)驗(yàn)室與生產(chǎn), Y (多孔) 用于生產(chǎn))
速度達(dá) 400 m/s
剪切率達(dá) 107s-1
整批混合條件不變
可用和負(fù)擔(dān)得起的可擴(kuò)展性
NLM100: 75µm Z 型和 100µm Z 型
NH500: 100µm Z 型和 200µm Z 型, NH4000: 400µm Z 型 (過(guò)濾) -> 100µm Y 型(multi slots-多槽)各種技術(shù)的剪切率
Suflux®
剪切率:
通過(guò)供給分散單元和狹窄間隙之間的差動(dòng)速度引起的。
速度:
在分散單元內(nèi)約有 400~ 500m/s
碰撞:
受到碰撞的力量
應(yīng)用：
癌癥藥物，細(xì)胞，蛋白質(zhì)等乳液，奶油，海藻萃取等
二氧化硅，蠟，環(huán)氧，丙烯酸，纖維素，硅酮乳液，潤(rùn)滑劑，TiO2油墨，顏料涂料，CNT，碳，BT ,石墨烯，氧化鋁
設(shè)備名稱 攪拌機(jī) 納米分散機(jī)
Microscope 分離 穩(wěn)定性好 穩(wěn)定性好 穩(wěn)定性好 分離
Suflux
® 納米分散機(jī) NLM100
納米均質(zhì)分散機(jī) NLM 100
- 適用于實(shí)驗(yàn)室研究
- 良好的重現(xiàn)性
- 樣品量：少于100ml
- 適合臺(tái)式作業(yè)
- 平穩(wěn)，安靜可靠的操作- 保持液體和漿料的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性為終工藝.
® 納米均質(zhì)分散機(jī) NH500
- 高壓均質(zhì)分散機(jī)(NH-500) :
它與預(yù)處理設(shè)備混合分散后影響液體或漿料的物理穩(wěn)定性.
(基于d99的大小從幾百到30um)
反沖洗系統(tǒng) 出料前冷卻裝置 鋼化玻璃保護(hù)外殼 可通過(guò)油壓調(diào)節(jié)調(diào)整壓力
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