一、產(chǎn)品名稱關鍵詞：白炭黑濕法改性高剪切分散機,二氧化硅濕法改性研磨機,管線式在線研磨分散機
二、改性白炭黑的意義
白炭黑具有特殊的表面結構（帶有表面羥基和吸附水）、特殊的顆粒形態(tài)（粒子小、比表面積大等）和*的物理化學性能。但由于其內(nèi)部的聚硅氧和外表面存在的活性硅醇基及其吸附水，使其呈親水性，在有機相中難以濕潤和分散，而且，由于其表面存在羥基，表面能較大，聚集體總傾向于凝聚，因而產(chǎn)品的應用性能受到影響。為此，需要對白炭黑進行表面改性，以改善其應用效果，提高產(chǎn)品的附加值，拓展產(chǎn)品的應用領域。
三、改性白炭黑的方法
白炭黑表面改性有無機物改性和有機物改性兩種。
有機物改性是白炭黑表面改性的主要方法，該改性方法的技術關鍵在于有機基團取代白炭黑的表面羥基，這一步稱為有機硅烷化。有機物改性常用的方法分為干法和濕法兩種
1.干法
目前發(fā)達國家的氣相白炭黑的表面改性工藝均采用干法。采用干燥的白炭黑與改性劑（有機物）蒸汽在固體反應器或流化床反應器中高溫條件下接觸反應。
2.濕法
主要有兩種
①將干燥的白炭黑與改性劑及一種有機溶劑（苯、甲苯等）組成的溶液一起加熱煮沸，回流反應，然后分離、干燥。該法的主要特點是工藝簡單，產(chǎn)品質(zhì)量容易控制，改性劑消耗量小。缺點是其產(chǎn)品后處理過程復雜，且造成有機溶劑污染，較難實現(xiàn)規(guī)?；I(yè)生產(chǎn)。
②將干燥的白炭黑或洗滌后的沉淀白炭黑濾餅配制成水溶液料漿，可加入改性劑進行有機硅烷化反應；或者將改性劑直接加入到合成沉淀白炭黑的原料中，合成反應的同時進行改性反應；還可以再合成沉淀反應完成后的懸濁液中加入改性劑。該法的主要特點是工藝簡單，輔助設備少，可以對沉淀白炭黑尤其是沉淀白炭黑的半成品進行改性，有利于降低產(chǎn)品成本。
四、濕法改性白炭黑的設備
對于沉淀白炭黑的改性，國內(nèi)大多是采用濕法改性。由于國內(nèi)沉淀白炭黑的生產(chǎn)現(xiàn)狀，生產(chǎn)出來的沉淀白炭黑顆粒粒徑相對而言還比較大，要想充分改性，就必須將沉淀白炭黑的顆粒進行細化。對于沉淀白炭黑的濕法改性而言，太倉希德研發(fā)的研磨分散機，很好的適應于沉淀白炭黑的濕法改性。SID研磨分散機不僅可以將改性劑充分的分散到白炭黑水溶液料漿中，同時又可以將白炭黑顆粒充分細化，從而實現(xiàn)白炭黑的改性。
XM2000系列研分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。初級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
XM2000系列研磨分散機的特點：
1、線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。
2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離，在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
4、高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
XMD2000白炭黑濕法改性高剪切分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
1、采用XMD2000/4研磨分散機，進行研磨細化。
2、7L罐體（罐體大小后期可選擇）及循環(huán)系統(tǒng)，易于批次物料處理。
3、攪拌機進行攪拌預混，提高產(chǎn)品的均勻性。
4、我司研磨分散機為超高速設備（轉(zhuǎn)速18000rpm），需要配冷水機對機械密封進行降溫。
5、同時需要配置一臺變頻器，進行轉(zhuǎn)速調(diào)試，設備開關，有利于保護設備。
功率4KW，轉(zhuǎn)速0-18000rpm，線速度0-44m/s，電壓380V，機器產(chǎn)量為0-300升/小時（水），重量50KG，尺寸(長寬高450X350X750)mm，使用雙機械密封，可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對密封部分進行冷卻。機械密封和機械設計符合3A健康標準，是實驗和中試生產(chǎn)的理想選擇。
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