脫硫除塵設(shè)備,雙堿法脫硫工藝流程圖

脫硫除塵設(shè)備,雙堿法脫硫工藝流程圖 :  
zui初的雙堿法一般只有一個(gè)循環(huán)水池， NaOH 、石灰和脫硫過(guò)程中捕集的飛灰同在一個(gè)循環(huán)池內(nèi)混合。在清除循環(huán)池內(nèi)的灰渣時(shí)，煙灰、反應(yīng)生成物亞硫酸鈣、硫酸鈣及石灰渣和未反應(yīng)的石灰同時(shí)被清除，清出的混合物不易綜合利用而成為廢渣。為克服傳統(tǒng)雙堿法的缺點(diǎn)，對(duì)其進(jìn)行了改進(jìn)。主要工藝過(guò)程是，清水池一次性加入氫氧化鈉制成脫硫液，用泵打入吸收塔進(jìn)行脫硫。三種生成物均溶于水，在脫硫過(guò)程中，煙氣夾雜的飛灰同時(shí)被循環(huán)液濕潤(rùn)而捕集，從吸收塔排出的循環(huán)漿液流入沉淀池?；以?jīng)沉淀定期清除，可回收利用，如制磚等。上清液溢流進(jìn)入反應(yīng)池與投加的石灰進(jìn)行反應(yīng)，置換出的氫氧化鈉溶解在循環(huán)水中，同時(shí)生成難溶解的亞硫酸鈣、硫酸鈣和碳酸鈣等，可通過(guò)沉淀清除。

 3 、 脫硫除塵設(shè)備,雙堿法脫硫工藝流程圖工藝流程說(shuō)明  
雙堿法煙氣脫硫工藝主要包括吸收劑制備和補(bǔ)充系統(tǒng)，煙氣系統(tǒng)， SO2 吸收系統(tǒng)，脫硫石膏脫水處理系統(tǒng)和電氣與控制系統(tǒng)五部分組成。  A 、 吸收劑制備及補(bǔ)充系統(tǒng)  
脫硫裝置啟動(dòng)時(shí)用氫氧化鈉作為吸收劑，氫氧化鈉干粉料加入堿液罐中，加水配制成氫氧化鈉堿液，堿液被打入返料水池中，由泵打入脫硫塔內(nèi)進(jìn)行脫硫，為了將用鈉基脫硫劑脫硫后的脫硫產(chǎn)物進(jìn)行再生還原，需用一個(gè)制漿罐。制漿罐中加入的是石灰粉，加水后配成石灰漿液，將石灰漿液打到再生池內(nèi)，與亞硫酸鈉、硫酸鈉發(fā)生反應(yīng)。在整個(gè)運(yùn)行過(guò)程中，脫硫產(chǎn)生的很多固體殘?jiān)阮w粒物經(jīng)渣漿泵打入石膏脫水處理系統(tǒng)。由于排走的殘?jiān)袝?huì)損失部分氫氧化鈉，所以，在堿液罐中可以定期進(jìn)行氫氧化鈉的補(bǔ)充，以保證整個(gè)脫硫系統(tǒng)的正常運(yùn)行及煙氣的達(dá)標(biāo)排放。為避免再生生成的亞硫酸鈣、硫酸鈣也被打入脫硫塔內(nèi)容易造成管道及塔內(nèi)發(fā)生結(jié)垢、堵塞現(xiàn)象，可以加裝瀑氣裝置進(jìn)行強(qiáng)制氧化或特將水池做大，再生后的脫硫劑溶液經(jīng)三級(jí)沉淀池充分沉淀保證大的顆粒物不被打回塔體。另外，還可在循環(huán)泵前加裝過(guò)濾器，過(guò)濾掉大顆粒物質(zhì)和液體雜質(zhì)。

 煙氣系統(tǒng)  
鍋爐煙氣經(jīng)煙道進(jìn)入除塵器進(jìn)行除塵后進(jìn)入脫硫塔，洗滌脫硫后的低溫?zé)煔饨?jīng)兩級(jí)除霧器除去霧滴后進(jìn)入主煙道，經(jīng)過(guò)煙氣再熱后由煙囪排入大氣。當(dāng)脫硫系統(tǒng)出現(xiàn)故障或檢修停運(yùn)時(shí)，系統(tǒng)關(guān)閉進(jìn)出口擋板門，煙氣經(jīng)鍋爐原煙道旁路進(jìn)入煙囪排放。

C 、 SO2 吸收系統(tǒng)  
煙氣進(jìn)入吸收塔內(nèi)向上流動(dòng)，與向下噴淋的石灰石漿液以逆流方式洗滌，氣液充分接觸。脫硫塔采用內(nèi)置若干層旋流板的方式，塔內(nèi)zui上層脫硫旋流板上布置一根噴管。噴淋的氫氧化鈉溶液通過(guò)噴漿層噴射到旋流板中軸的布水器上，然后堿液均勻布開(kāi)，在旋流板的導(dǎo)流作用下，煙氣旋轉(zhuǎn)上升，與均勻布在旋流板上的堿液相切，進(jìn)一步將堿液霧化，充分吸收 SO2 、 SO3 、 HCl 和 HF 等酸性氣體，生成 NaSO3 、 NaHSO3 ，同時(shí)消耗了作為吸收劑的氫氧化鈉。用作補(bǔ)給而添加的氫氧化鈉堿液進(jìn)入返料水池與被石灰再生過(guò)的氫氧化鈉溶液一起經(jīng)循環(huán)泵打入吸收塔循環(huán)吸收 SO2 。  
在吸收塔出口處裝有兩級(jí)旋流板（或折流板）除霧器，用來(lái)除去煙氣在洗滌過(guò)程中帶出的水霧。在此過(guò)程中，煙氣攜帶的煙塵和其它固體顆粒也被除霧器捕獲，兩級(jí)除霧器都設(shè)有水沖洗噴嘴，定時(shí)對(duì)其進(jìn)行沖洗，避免除霧器堵塞。脫硫產(chǎn)物處理系統(tǒng)  
脫硫系統(tǒng)的zui終脫硫產(chǎn)物仍然是石膏漿 ( 固體含量約 20 ％ ) ，具體成分為 CaSO3 、 CaSO4 ，還有部分被氧化后的鈉鹽 NaSO4 。從沉淀池底部排漿管排出，由排漿泵送入水力旋流器。由于固體產(chǎn)物中摻雜有各種灰分及 NaSO4 ，嚴(yán)重影響了石膏品質(zhì)，所以一般以拋棄為主。在水力旋流器內(nèi)，石膏漿被濃縮 ( 固體含量約 40 ％ ) 之后用泵打到渣處理場(chǎng)，溢流液回流入再生池內(nèi)。  E 、 電氣與控制系統(tǒng)  
脫硫裝置動(dòng)力電源自電廠配電盤引出，經(jīng)高壓動(dòng)力電纜接入脫硫電氣控制室配電盤。在脫硫電氣控制室，電源分為兩路，一回經(jīng)由配電盤、控制開(kāi)關(guān)柜直接與高壓電機(jī) ( 漿液循環(huán)泵 ) 相連接。另一回接脫硫變壓器，其輸出端經(jīng)配電盤、控制開(kāi)關(guān)柜與低壓電器相連接，低壓配電采用動(dòng)力中心電動(dòng)機(jī)控制中心供電方式。  
系統(tǒng)配備有低壓直流電源為電動(dòng)控制部分提供電源。  
脫硫系統(tǒng)的脫硫劑加料設(shè)備和旋流分離器實(shí)行現(xiàn)場(chǎng)控制，其它實(shí)行控制室內(nèi)脫硫控制盤集中控制，亦可實(shí)現(xiàn)就地手動(dòng)操作。 正常運(yùn)行時(shí)，由立式控制盤自動(dòng)控制各個(gè)調(diào)節(jié)閥，控制脫硫系統(tǒng)石灰供應(yīng)量和氫氧化鈉補(bǔ)給量，要在鍋爐負(fù)荷變動(dòng)時(shí)能自動(dòng)予以調(diào)節(jié)。煙氣量的控制是根據(jù)鍋爐排煙量，由引風(fēng)機(jī)入口擋板通過(guò)鍋爐負(fù)荷信號(hào)轉(zhuǎn)換為煙氣量與實(shí)際引入脫硫裝置的煙氣量反饋信號(hào)控制。吸收劑漿液流量的控制是通過(guò)進(jìn)入脫硫裝置的 SO2 量以及循環(huán)漿池中漿液的 PH 值來(lái)控制的。副產(chǎn)品漿液供給量通過(guò)吸收劑漿液的流量來(lái)控制。除霧裝置清洗水的流量、吸收室入口沖洗水的壓力以及脫水機(jī)排出液流量單獨(dú)控制。脫硫塔底部的液位亦屬于單獨(dú)控制，即通過(guò)補(bǔ)給水量來(lái)控制。吸收劑漿池濃度的控制由補(bǔ)給水量調(diào)節(jié)給料器的轉(zhuǎn)速以控制石灰加入量，繼而達(dá)到控制濃度的目的。吸收室出口除霧器的清洗是按一定的時(shí)間間隔開(kāi)關(guān)噴水閥用補(bǔ)充給水進(jìn)行沖洗。 4 、二次污染的解決問(wèn)題  
采用氫氧化鈉作為脫硫劑，在脫硫塔內(nèi)吸收二氧化硫反應(yīng)速率快，脫硫效率高，但脫硫的產(chǎn)物 Na2SO4 很難進(jìn)行處理，極易造成嚴(yán)重的二次污染問(wèn)題。采用雙堿法煙氣脫硫工藝，用氫氧化鈉吸收二氧化硫后的產(chǎn)物用石灰來(lái)再生，只有少量的 Na2SO4 被帶入石膏漿液中，這些摻雜了少量 Na2SO4 的石膏漿液用泵打入旋流分離器中進(jìn)行固液分離，分離的大量的含水率較低的固體殘?jiān)淮虻皆鼒?chǎng)進(jìn)行堆放，溶液流回再生池繼續(xù)使用，因此不會(huì)造成二次污染。

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