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超純水設(shè)備

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  • 型號(hào) 工業(yè)水
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  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地 成都市

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更新時(shí)間:2023-02-27 13:54:08瀏覽次數(shù):377

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

描述:“沃特浦"工業(yè)水超純水設(shè)備應(yīng)用特點(diǎn):熱力、火力發(fā)電廠、工礦企業(yè)高中低壓鍋爐動(dòng)力所需軟化水、除鹽水、化水??刹捎萌詣?dòng)預(yù)處理單元,PLC電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、使用壽命長(zhǎng)、設(shè)備運(yùn)行可靠、低能耗、低噪音等。(可根據(jù)用戶要求做DCS遠(yuǎn)程控制系統(tǒng))產(chǎn)水水質(zhì):電導(dǎo)率:≤0.2μs/cm 硬度≈0 二氧化硅:≤20μg/L PH(25℃):8.5-9.2

詳細(xì)介紹

詳情介紹

“沃特浦”工業(yè)水超純水設(shè)備

        本公司是專(zhuān)業(yè)從事水處理設(shè)備的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、安裝及施工于一體的股份企業(yè)。產(chǎn)品主要涉及電力行業(yè)、光學(xué)電子行業(yè)、石油化工行業(yè)、食品、飲料行業(yè)的水處理系統(tǒng)。同時(shí),也廣泛用于住宅小區(qū),賓館酒店等行業(yè)的飲用水集中水回用工程。公司自2005年成立以來(lái),產(chǎn)品已廣泛銷(xiāo)往全國(guó)各地,部分產(chǎn)品已銷(xiāo)往國(guó)外,公司已完成個(gè)行業(yè)水處理系統(tǒng)百余套。主要產(chǎn)品有:純水處理設(shè)備、礦泉水處理設(shè)備、醫(yī)藥用水處理設(shè)備、超純水處理設(shè)備、海水淡化設(shè)備、灌裝設(shè)備、離子交換設(shè)備、脫鹽水設(shè)備、消毒殺菌設(shè)備、反滲透設(shè)備、EDI設(shè)備、過(guò)濾設(shè)備以及水處理的藥劑、配件等。

〖電力行業(yè)化水系統(tǒng)〗“沃特浦”工業(yè)水處理系統(tǒng)

        應(yīng)用特點(diǎn):熱力、火力發(fā)電廠、工礦企業(yè)高中低壓鍋爐動(dòng)力所需軟化水、除鹽水、化水??刹捎萌詣?dòng)預(yù)處理單元,PLC電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、使用壽命長(zhǎng)、設(shè)備運(yùn)行可靠、低能耗、低噪音等。(可根據(jù)用戶要求做DCS遠(yuǎn)程控制系統(tǒng))
產(chǎn)水水質(zhì):電導(dǎo)率:≤0.2μs/cm      硬度≈0      二氧化硅:≤20μg/L      PH(25℃):8.5-9.2
“沃特浦”工業(yè)水超純水設(shè)備工藝流程:預(yù)處理→反滲透主機(jī)→脫CO2塔→混床→加氨系統(tǒng)→鍋爐

 

〖石油化工行業(yè)用水〗

應(yīng)用特點(diǎn):化工反應(yīng)冷卻、化工配劑、化學(xué)藥劑、精細(xì)化工制造過(guò)程用工藝純水??刹捎萌詣?dòng)預(yù)處理單元,PLC電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、使用壽命長(zhǎng)、設(shè)備運(yùn)行可靠、      低能耗、低噪音。
產(chǎn)水水質(zhì):一級(jí)除鹽電導(dǎo)率≤10μs/cm          一級(jí)除鹽+混床電導(dǎo)率:0.1-0.5μs/cm
工藝流程:預(yù)處理→反滲透主機(jī)→混床

 

“沃特浦”工業(yè)水超純水設(shè)備〖電子光學(xué)工業(yè)用水〗

應(yīng)用特點(diǎn):晶體半導(dǎo)體、集成電路芯片、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、顯示器、液晶顯示制造過(guò)程中的純水、超純水;工藝中清洗用純水。可采用全自動(dòng)預(yù)處理單元,PLC電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、膜使用壽命長(zhǎng)、設(shè)備運(yùn)行可靠、低能耗、低噪音。系統(tǒng)設(shè)置手動(dòng)、自動(dòng)沖洗,無(wú)               水停機(jī),高低壓保護(hù)及液位控制等功能。
產(chǎn)水水質(zhì):TOC<10ppb                    PARTICLE達(dá)到0.5μm≤200PCS/L 
                二氧化硅SiO2<5ppb         電阻率≥18MΩ.cm(25℃)
工藝流程:預(yù)處理→反滲透主機(jī)→EDI→拋光混床

 

 

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